[实用新型]用于化学制程的支架

说明书

技术领域

本实用新型涉及光罩生产技术领域，尤其涉及一种用于化学制程的支架。

背景技术

随着科技的不断发展，光罩所涉及的领域越来越广，相关行业对光罩的需求量也不断增加，而且需求时间更加紧张，时效已成为企业非常重视的问题。与此同时，光刻机曝光速度越来越快，曝光完一张小版几分钟就能完成。但是化学药液腐蚀速度没有提高，化学制程这个环节严重影响了光罩制程效率。

现有的光罩制程中，单次化学制程仅能制程一片铬版，生产效率非常低，无法满足快速生产的需求；同时，每一次化学制过程中的化学腐蚀都会由于液体和操作过程不一而存在偏差，且偏差方向不固定，整套版的套合精度不高。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种用于化学制程的支架，有效提高制程效率，降低生产成本。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提出了一种用于化学制程的支架，包括支架本体，所述支架本体上设置有用于容置版材的容置腔，所述容置腔至少一侧壁上设置有若干用于卡置所述版材的卡槽。

进一步地，所述卡槽沿所述容置腔深度方向平行排布。

进一步地，所述卡槽均匀分布或阵列排布于所述容置腔侧壁上。

进一步地，所述卡槽对应设置于所述容置腔的两相对侧壁上。

进一步地，所述卡槽对应设置于所述容置腔的四侧壁上，且两相对侧壁上的所述卡槽相对应。

进一步地，形成所述卡槽的凸条底部与所述容置腔底面留有空隙。

本实用新型实施例的有益效果是：通过设置具有版材容置腔的支架，于容置腔内设置若干用于卡置版材的卡槽，实现版材的批量制程，从而大大提高版材的化学制程效率，进而提高光罩生产效率，降低生产成本；同时，采用批量制程，保证每片版材偏差相同，进而有效提高整套版的套合精度。

附图说明

图1是本实用新型实施例的支架的一种实施方式结构图。

图2是本实用新型实施例的支架的另一种实施方式结构图。

图3是本实用新型实施例的支架的使用状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步具体说明。

如图1~图3所示，本实用新型实施例提供一种用于化学制程的支架，包括支架本体1，所述支架本体1上设置有用于容置版材2的容置腔3，所容置腔3至少一侧壁上设置有若干条卡槽4用于卡置所述版材2。较佳地，所述卡槽4呈纵向平行阵列排布。所述容置腔3也可用于盛装化学处理试剂以浸泡处理所述版材2。

如图1所示，在本实施例中，所述卡槽4对应设置于所述容置腔3两相对侧壁上，所述容置腔3为但不限于矩形，其两个相对的侧壁上设置有若干矩形阵列排布的所述卡槽4；作为一种实施方式，所述卡槽4也可如图2所示对应设置于所述容置腔3的四侧壁上，且两相对侧壁上的所述卡槽4相对应。两相邻的所述卡槽4之间的间距没有特殊限定，所述卡槽4可按照一定排布方式均匀分布于所述容置腔3的侧壁上，也可采用阵列排布方式进行设置。

本实用新型实施例中，所述卡槽4由若干矩形阵列排布的凸条5两两相邻形成，为保证所述支架在工作时，不影响所述版材2的化学制程效果，确保所述容置腔3内化学药液的流动性，所述凸条5底部与所述容置腔3底面间留有空隙。

请参考图3，以下对采用本实用新型实施例的所述支架进行批量化学制程的具体方法作详细说明，本实施例陈述的方法中所采用的所述版材2为铬版。

1、从光刻机中将曝光好的铬版取下，放到本实用新型实施例所述支架上。然后将新的版材2放到光刻机中继续曝光，待所述支架上放上同条件下曝光好的一定量的所述版材2之后，再同时进行后续制程。

2、把放置有一定量的所述版材2的所述支架放到显影液里显影，多片所述版材2同时被化学腐蚀。在进行化学腐蚀时，多片腐蚀的过程和单片腐蚀过程几乎一样，没有很大的区别。由于多片所述版材2在所述支架的卡槽4内形成垂直均匀的分布，且所述支架本身通透性很好，不会影响化学药液的流动性，故能保证多片批量化学制程时每张所述版材2均能被腐蚀得均匀透彻。

3、将显影好的所述版材2再拿去清洗，清洗好后再接着蚀刻，蚀刻好后再进行清洗等后续制程，进而批量完成所述版材2的化学制程。

对所述版材2进行化学制程时，所有制程均不必像往常一样一张张的进行，均可将所述版材2放置于所述支架上以同时进行各项制程。

与传统的单片化学制程相比，采用本实用新型实施例的所述支架实现批量制程，具有如此优点；