[实用新型]一种排汽结构有效

专利信息
申请号: 201220249024.7 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN202801299U 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 谭发刚;罗刚;陈前;万文锋;刘焕洲 申请(专利权)人: 美的集团股份有限公司
主分类号: A47J36/38 分类号: A47J36/38;A47J36/06
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 禹小明;林伟斌
地址: 528311 广东省佛山市顺德区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及小家电加热领域,具体涉及一种排汽结构。 

背景技术

随着我国经济的快速发展,电加热液体已经在各个领域得到了广泛的应用,也出现了许多电加热液体的装置。电加热液体装置在加热液体过程中产生大量的蒸汽,使容器表面过热,如不能及时排出蒸汽,会导致加热过程中形成的压力较高,容易对用户造成一定的危险,安全性能较低。现有的保温电加热液体装置一般通过壶盖顶部排出蒸汽,这种方式需要在壶盖顶部开有蒸汽孔,易有粉尘或者小虫进入到壶盖内部,不易清洗,并且在刚烧好水用户想打开壶盖时,容易将手烫伤。 

发明内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种排汽结构,可方便的从壶嘴排出蒸汽,避免在打开壶盖时被壶盖烫伤,其结构简单且安全可靠。 

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种排汽结构,包括壶盖结构和壶嘴,其特征在于:所述的壶盖结构包括上壶盖,上壶盖上设有用于将蒸汽从上壶盖排至壶嘴的排汽通道。通过设置排汽通道将蒸汽导到壶嘴排出,不必在壶盖上另外开设蒸汽孔,避免打开壶盖时壶盖蒸汽口处过热发生烫伤事故,保护用户的安全。 

进一步的,所述的排汽通道环绕设置在上壶盖外壁上。排汽通道迂回的设置于外壁上,不必在壶盖内部设置排气通道,壶盖内部空间狭小,不易装配,将排气通道设置在壶盖外壁上,使得装配变得更加简单。 

进一步的,所述的排汽通道为设于上壶盖外壁上的凹槽,所述的上壶盖还设有将蒸汽输出至凹槽的排汽孔。凹槽是上壶盖制造时一体成型的,蒸汽从排汽孔中出来,经过凹槽流向壶嘴排出。省去了排气管等零部件,结构简单,装配简单,成本会更加低廉。 

进一步的,所述的壶盖结构还包括密封结构,密封结构设于上壶盖下部外壁上或者边缘上,用于将上壶盖下部与壶体内侧壁的连接处进行密封。 

进一步的,所述的壶盖结构还包括下壶盖,上壶盖与下壶盖通过螺钉连接或者卡接。所述的密封结构为密封圈。壶盖结构可整体从壶体上拆卸下来,方便用户注水及清洗壶体,密封圈对壶盖结构与壶体内侧壁的连接处进行密封,有效阻止水从两者的连接缝隙处溢出。 

进一步的,所述的下壶盖上设有用于将蒸汽从壶体内输出到排汽孔的通孔。在加热水时,壶体内大量的蒸汽溢出,通过下壶盖上的通孔流动至排汽孔,从排汽孔流出,接着通过排汽通道排出到壶嘴。 

与现有技术相比,有益效果是:本实用新型的壶盖结构包括上壶盖,上壶盖上设有用于将蒸汽从上壶盖排至壶嘴的排汽通道。通过将蒸汽直接从壶嘴排出,不必在壶盖上开设蒸汽孔,从而可避免被壶盖烫伤的危险;并且,在壶盖外侧壁设置凹槽作为排气通道,结构简单,装配工艺简单,从而可降低成本。 

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图。 

具体实施方式

如图1所示,一种排汽结构,包括壶盖结构10和壶嘴20,其特征在于:所述的壶盖结构10包括上壶盖11,上壶盖11上设有用于将蒸汽从上壶盖11排至壶嘴20的排汽通道。 

进一步的,所述的排汽通道环绕设置在上壶盖11外壁上。 

本实施例中,所述的排汽通道为设于上壶盖11外壁上的凹槽111,所述的上壶盖11还设有将蒸汽输出至凹槽111的排汽孔112。凹槽111是上壶盖11制造时一体成型的,蒸汽从排汽孔112中出来,经过凹槽111流向壶嘴20排出。当然,排汽通道也可以设计成其它的结构,如直接在排汽孔112上接一条管道连通壶嘴20。 

进一步的,所述的壶盖结构10还包括密封结构,密封结构设于上壶盖11下部外壁上或者边缘上,用于将上壶盖11下部与壶体内侧壁的连接处进行密封。壶体内的蒸汽直接进入到上壶盖然后通过排汽孔112向壶嘴排出。 

进一步的,所述的壶盖结构10还包括下壶盖12,上壶盖11与下壶盖12通过螺钉连接或者卡接。所述的密封结构为密封圈13。壶盖结构10可整体从壶体上拆卸下来,方便用户注水及清洗壶体,密封圈13对壶盖结构10与壶体内侧壁的连接处进行密封,有效阻止水从连着的连接缝隙处溢出。 

进一步的,所述的下壶盖12上设有用于将蒸汽从壶体内输出到排汽孔112的通孔。 

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,对实用新型的技术方案可以做若干适合实际情况的改进。因此,本实用新型的保护范围不限于此,本领域中的技术人员任何基于本实用新型技术方案上非实质性变更均包括在本实用新型保护范围之内。 

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