[实用新型]一种二极管清洗设备有效
申请号: | 201220251473.5 | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN202871756U | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 黄惠平;王秋霜;刘秀琴;潘建强 | 申请(专利权)人: | 常州佳讯光电产业发展有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/12 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 何学成 |
地址: | 213181 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二极管 清洗 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及二极管领域,特别的是涉及一种二极管清洗设备。
背景技术
清洗是二极管酸洗工序比较重要的部分之一,其中清洗有三道,第一道为水超声振荡、第二、三道为IPA超声振荡,在现有技术的基础上,将三道清洗改成HF-5100A五槽超声波清洗机,它是针对二极管行业设计、制作的专用清洗设备,是以纯水和溶剂(如异丙醇)作为清洗脱水介质,其工作原理是:工件进入清洗槽内,待清洗液浸没工件后,超声波和清洗介质共同作用:清洗剂溶解或浸润附在工件表面的脏物,超声波轰击附在工件表面、缝隙、沟槽的脏物,加速脏物的溶解或浸润,使脏物剥离粘附在工件表面,达到既洁净和脱水之目的。本机特点:采用当今国际清洗行业内最先进的超声清洗技术—超声功率、频率连续可调,频率自动跟踪及扫频技术,使超声波均匀并强劲有力。使用此设备更好的对材料进行清洗,达到清洗彻底的效果,从而提高质量及减少劳动力。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型的目的之一是提供一种二极管清洗设备。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案实现:
一种二极管清洗设备,包括操作台,所述的操作台上依次设置有,超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽,所述的超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽顺序连接;所述的设备还包括用于启动操作台平移的平移气缸以及用于启动操作台升降的升降气缸;
所述的超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽,其清洗槽内尺寸为L×W×H=600mm×330mm×250mm,其外形尺寸为:L×W×H=720mm×430mm×900mm;
所述的超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽均采用不锈钢材质;
所述的平移气缸,其直径选用的平移气缸;
所述的升降气缸,其直径选用的升降气缸;
所述的设备通过PLC控制。
本实用新型的工艺技术方案中,该设备是以纯水和异丙醇作为清洗脱水介质,当待清洗的二极管工件进入清洗槽内,待清洗液浸没工件后,超声波和清洗介质共同作用,清洗剂溶解或浸润附在工件表面的脏物,超声波轰击附在工件表面、缝隙、沟槽的脏物,加速脏物的溶解或浸润,使脏物剥离粘附在工件表面,达到既洁净和脱水之目的。
本实用新型的有益效果在于:
1、原有设备人工操劳度强,需用4人操作,使用现在设备后,只需2人操作。
2、原有设备对产品品质上得不到保障,在二极管深度清洗过程,与异丙醇清洗脱水超声效果无法控制,在二极管特性、IR漏电、VR电压击穿得不到有效控制。
3、由于原有设备完全是人工单独更换操作,随机性非常大,无法做到一致性,流水作业,在使用现在设备后,在清洗超声脱水时间是由PLC程序控制。
4、很大程度减少了二极管PN结暴露在空气环境中的污染,现实证明明显提升了产品品质。
附图说明
图1为本实用新型清洗设备的结构示意图
具体实施方式
下面通过具体实施例,对本实用新型做详细的描述:
实施例1
参考图1,一种二极管清洗设备,包括操作台1,所述的操作台1上依次设置有,超声波清洗槽21、超声波精洗槽22、超声波漂洗槽23、IPA超声波一次脱洗槽24和IPA超声波二次脱洗槽25,所述的超声波清洗槽21、超声波精洗槽22、超声波漂洗槽23、IPA超声波一次脱洗槽24和IPA超声波二次脱洗槽25顺序连接;所述的设备还包括用于启动操作台1平移的平移气缸31以及用于启动操作台升降的升降气缸32,所述的超声波清洗槽21、超声波精洗槽22超声波漂洗槽23、IPA超声波一次脱洗槽24和IPA超声波二次脱洗槽25,其槽内尺寸为L×W×H=600mm×330mm×250mm,其外形尺寸为:L×W×H=720mm×430mm×900mm,所述的超声波清洗槽21、超声波精洗槽22超声波漂洗槽23、IPA超声波一次脱洗槽24和IPA超声波二次脱洗槽25均采用不锈钢材质,所述的平移气缸31,其直径选用的平移气缸,所述的升降气缸32,其直径选用的升降气缸,二极管清洗工艺所需的工艺设备通过PLC控制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州佳讯光电产业发展有限公司,未经常州佳讯光电产业发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220251473.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种压缩机组进气缓冲罐的支撑机构
- 下一篇:空调水蓄冷系统水管出水导流器
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造