[实用新型]二极管酸处理后的震荡冲洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及二极管，尤其涉及一种OJ（Open  Junction）二极管酸处理后的去离子水震荡冲洗装置。

背景技术

当前，OJ（Open Junction）二极管的制造过程中，在酸处理后的冲洗工位，固定的冲水角度下，背向冲水方向的一侧形成冲洗死角，同时导线与治具之间的结合缝隙中的化剂得不到充分清洗，被带入后工序，成为二次污染源，残留的可移动离子附着在芯片部位产生信赖性隐患。因此，在清洗过程中，需要消耗较多的酸洗液才能将二极管清洗干净，清洗时间长，效率低。

实用新型内容

本实用新型针对以上问题，提供了一种同步导入高频震荡，使得二极管产生震动和轴向转动，达到有效冲洗死角的二极管酸处理后的震荡冲洗装置。

本实用新型的技术方案是：所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上，所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置，所述酸洗盘设在所述水槽上，所述冲洗头设在所述酸洗盘上方；

所述震荡装置设在所述水槽的一侧，所述震荡装置包括振子、支架和弹簧，所述振子设在所述支架上部中间位置；

所述支架具有支撑板和立板，相互间构成L形；所述支撑板水平地设在所述水槽的内侧、且高于所述水槽顶缘高度；所述酸洗盘的外侧搁置在所述水槽的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板朝向所述水槽的顶缘上，使得所述酸洗盘倾斜设在所述水槽和支撑板之间；

所述弹簧活动设在所述支撑板的下部。

    还包括限位机构，所述限位机构包括导向螺栓组件和一对限位板；所述导向螺栓组件穿过所述弹簧、连接所述支撑板；所述限位板具有水平的顶板，所述一对限位板设在所述支撑板的两侧、其顶板的底面贴合所述支撑板的顶面。

    所述支撑板朝向所述水槽的顶缘设有凸边，所述凸边为梯形，使得所述酸洗盘倾斜设置在所述凸边上。

所述震荡装置的立板铰接在底座上。

还包括限位槽，所述立板的底部设在所述限位槽内，用于限制所述支架前后移动。

    在所述酸洗盘的两侧设有凹槽或凸筋。

所述振子的震荡频率为5-15次/秒，振幅为0.1-0.5mm。

    所述酸洗盘的倾斜角度为5~30°。

本实用新型的震荡装置包括支架、振子和弹簧，振子在控制器控制下形成高频震源，与弹簧、支架在水槽上实现高频震荡，其中振子的震动频率和振幅是可调节的，以二极管在酸洗盘上可见的转动时为恰当、效果最佳；支架的高度通过导向螺栓组件调节，避免支架和水槽刚性接触带来振幅的衰降，限位板的设置限制了支撑板的Z向的振动高度；限位槽或铰接结构的设置，限制了支架X向的移动。本实用新型结构简单、制造成本低，振动、冲洗效果明显。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图，

图2是图1的右视图，

图3是本实用新型的优化实施方式一，

图4是本实用新型的优化实施方式二，

图5是本实用新型的优化实施方式三，

图6是本实用新型中酸洗盘的工作状态图一，

图7是本实用新型中酸洗盘的工作状态图二；

图中1是冲洗头，2是酸洗盘，20是凹槽，21是凸筋，3是振子，4是二极管，5是导向螺栓组件，6是支架，60是支撑板，601是凸边，6011是上行斜坡，6012是下行斜坡，61是立板，7是限位板，70是顶板，81是限位槽，82是铰接结构，9是弹簧，10是水槽；

图中XYZ代表坐标系。

具体实施方式

本实用新型如图1-2所示，所述二极管4酸处理后设置在酸洗盘2上，所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头1、水槽10和震荡装置，所述酸洗盘2设在所述水槽10上，所述冲洗头1设在所述酸洗盘2上方；

所述震荡装置设在所述水槽10的一侧，所述震荡装置包括振子3、支架6和弹簧9，所述振子3设在所述支架6上部中间位置；

所述支架6具有支撑板60和立板61，相互间构成L形；所述支撑板60水平地设在所述水槽10的内侧、且高于所述水槽10顶缘高度；所述酸洗盘2的外侧搁置在所述水槽10的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板60朝向所述水槽10的顶缘上，使得所述酸洗盘2倾斜设在所述水槽10和支撑板60之间；

所述弹簧9活动设在所述支撑板60的下部。