[实用新型]高效声波硅材料湿处理设备有效
申请号: | 201220276953.7 | 申请日: | 2012-06-12 |
公开(公告)号: | CN202752271U | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 倪党生;李阳;朱卫然 | 申请(专利权)人: | 上海思恩电子技术有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B3/10 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 邓琪 |
地址: | 201300 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高效 声波 材料 处理 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种光伏生产设备,具体涉及一种高效声波硅材料湿处理设备。
背景技术
光伏产业对中国能源供应、能源安全、节能减排、保护环境将起到非常积极的影响,国家非常重视这一新兴战略性产业的发展,出台的“十二五”能源规划中提到要大力发展光伏应用。2011年8月初,国家发展和改革委员会出台了1元/kWh的光伏发电上网标杆电价政策,立即启动了中国国内市场需求,能源局最新数据显示,2011年中国全年新增安装量首次达到2.2GW(220万千瓦)。
随着光伏发电成本的不断降低,快速开拓市场应用,尤其是国内市场的应用,使之成为可持续发展的绿色经济增长点,是我们面临的重要课题。光伏“1元/度电”时代的到来,光伏将成为“节能减排”、应对气候变化的动力和源泉,光伏技术和传统能源技术相结合,亦可实现未来能源结构的逐渐调整,以实现从化石能源向可再生能源的稳步及时转型。
硅材料是光伏产业的一种重要原料,硅材料的洁净程度对于光伏产品的性能有着重大影响。而目前一般的硅材料清洗设备中,硅材料经混酸槽清洗后再使用单槽静态超声清洗,由于不同形状的硅材料在花篮中摆放比较紧密且相互接触,超声波能量常常无法穿透密集的层层硅材料缝隙,所以当盛放过多硅材料时会造成位于花篮中间不同形状的硅材料湿处理(刻蚀及清洗)效果无法保证,另外,由于设置在花篮上方的把手容易妨碍硅材料的放置,所以现有花篮通常最多盛放20Kg硅材料。此外,由于清洗的出来的污染物颗粒和残余酸液不能及时排出槽体,随着清洗篮数的增多,会产生累积,导致洗出来的硅材料质量不高,需要返工再次清洗,清洗时间长,清洗产量低。并且酸洗段与水洗段没有进行有效的隔离,可能造成交叉污染,影响硅材料的清洗品质,造成清洗成品合格率偏低。在现有硅材料湿处理设备中,清洗之后通常只是使用氮气循环吹扫花篮表面,以便除去花篮及硅材料表面的水分,但花篮和不同形状的硅材料内部及底部携带的大量水分无法及时排出,增加了烘干时间,生产效率低,资源消耗大,进而造成人力资源、自然资源的大量浪费,提高了清洗的成本,降低了产品在价格上的竞争力。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是提供一种高效声波硅材料湿处理设备,改善硅材料的清洗质量,提高硅材料的清洗效率和产量,大大节省人力物力资源。
本实用新型采用下述技术方案来解决上述技术问题:
一种高效声波硅材料湿处理设备,包括依次设置的至少一个混酸槽、至少一个水封槽、至少一个溢流槽和至少一个除水槽,以及用于容纳硅材料并通过传输机构在所述混酸槽、水封槽、溢流槽和除水槽之间传输的花篮;所述混酸槽、溢流槽和除水槽中分别设有声波振动装置。
本实用新型的高效声波硅材料湿处理设备,声波振动装置可以使位于花篮中间的各种形状的硅材料也能够得到充分的清洗,并且在除水槽能将上述硅材料与花篮中携带的大量水分充分抖落,以便提高烘干效率与减少烘干时间,提高了硅料湿处理的效率、质量和产量,大大节省了人力物力资源。
所述水封槽的槽体中部上方设有隔断门板,所述隔断门板的两侧分别设有与所述混酸槽相邻的第一工位以及与所述溢流槽相邻的第二工位,所述水封槽的槽底设有连接所述第一工位与第二工位的导轨,所述花篮在气缸驱动下沿着所述导轨运动。
所述声波振动装置包括,悬置于对应的槽体中以用于放置花篮的托架,连接在对应的槽壁和托架之间的连接件,以及与所述连接件相连以驱动所述托架垂直振动的声波振动电机。
所述声波振动电机的频率为5-20000HZ,振幅为1-20mm。
所述托架为L形。
所述水封槽的槽壁上设有位置传感器。
所述水封槽的槽底上设有至少一个排液口,所述水封槽的排液口包括溢流排液口和/或手动排液口。
所述溢流槽至少为两阶溢流槽,其包括依次设置的热水槽和至少一个超声水槽,所述热水槽和超声水槽中分别设有声波振动装置。
所述水封槽的槽壁上设有至少一个进液口,所述热水槽和超声水槽的槽底上分别设有至少一个排液口,所述热水槽和超声水槽的排液口与所述水封槽的进液口相连。
所述热水槽中设有加热器,所述热水槽中的液体温度为75-80℃。
所述超声水槽的槽底和/或槽壁上设有与超声发生器相连的超声振子,所述超声振子的频率为28-40KHZ。
所述混酸槽的槽壁上设有至少两个进液口,所述混酸槽的进液口包括HF进液口和HCl进液口。
所述混酸槽的槽壁上设有液位传感器。
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