[实用新型]气态汞发生装置

权利要求书

1.气态汞发生装置，该装置包括五个单元，分别为：

A、真空绝热单元，包括内胆和外胆，内、外胆之间设有真空绝热层，该单元补偿气进口、测温口和采样口；

B、汞标源渗透单元，设于真空绝热单元内胆中，包括石英容器和封装在其口部的缓释膜；

C、补偿气净化单元，设于真空绝热单元外部，包括吸附柱和吸附柱两端的控制阀，该吸附柱通过毛细管与所述石英容器连通；

D、测温单元，包括一温度计，该温度计插装至内胆中；

E、采样单元，为一注射采样器。

2.根据权利要求1所述的气态汞发生装置，其特征是：汞标源渗透单元的缓释膜采用石英或陶瓷缓释膜。

3.根据权利要求1所述的气态汞发生装置，其特征是：补偿气净化单元的吸附柱内填充有载溴活性炭、分子筛、硅胶吸附剂或干燥剂中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的气态汞发生装置，其特征是：所述吸附柱与毛细管相连的一端还设有滤膜。

5.根据权利要求1所述的气态汞发生装置，其特征是：所述吸附柱通过硅胶管与所述毛细管连接。

6.根据权利要求1所述的气态汞发生装置，其特征是：所述吸附柱和毛细管均采用石英材料制成。