[实用新型]改善型下穿通道路口有效

专利信息
申请号: 201220282419.7 申请日: 2012-06-15
公开(公告)号: CN202658487U 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 孙文昊;焦齐柱;王腾飞;李鸣冲;王春梅;刘浩;孙春光 申请(专利权)人: 中铁第四勘察设计院集团有限公司
主分类号: E01C1/04 分类号: E01C1/04
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 黄行军
地址: 430080 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 改善 型下穿 通道 路口
【权利要求书】:

1.一种改善型下穿通道路口,包括暗埋段(1)和位于暗埋段(1)两端的敞开段(2)、以及位于敞开段(2)两侧的侧墙(4),其特征在于:至少有一端的敞开段(2)的一侧或两侧的侧墙(4)的顶部设置有向敞开段(2)内侧延伸的扩展道路(6)。

2.根据权利要求1所述的改善型下穿通道路口,其特征在于:所述侧墙(4)为与地表垂直的直墙。

3.根据权利要求1或2所述的改善型下穿通道路口,其特征在于:所述扩展道路(6)是在从侧墙(4)顶部内伸的悬臂板上铺装路面构成。

4.根据权利要求1或2所述的改善型下穿通道路口,其特征在于:所述扩展道路(6)与敞开段(2)的两侧墙(4)之间的地面的垂直距离大于或等于限界高度。

5.根据权利要求1或2所述的改善型下穿通道路口,其特征在于:所述扩展道路(6)位于敞开段(2)上方一侧设有向上的挡墙(7)。

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