[实用新型]一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备

权利要求书

1.一种掩膜板自动清洁系统，其特征在于，包括：

掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；

机械手，用于搬运所述掩膜板；

微粒检测装置，位于所述掩膜板存储装置的上方，用于对所述掩膜板的上下表面进行扫描，并将扫描信息发送给控制装置；

掩膜板清洁装置，位于所述掩膜板存储装置的上方并与所述微粒检测装置一体形成封闭的清洁腔室，所述掩膜板清洁装置用于清洁经所述微粒检测装置检测后的掩膜板；

控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置的开启/闭合；

电气提供装置，用于提供动力能源。

2.如权利要求1所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述掩膜板存储装置内部沿纵向方向相对设置有多个用于放置掩膜板盒的支撑柱，所述掩膜板盒内存放掩膜板。

3.如权利要求1所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述微粒检测装置包括位于掩膜板上表面和下表面的条形微粒扫描器，所述条形微粒扫描器位于所述微粒检测装置的入口方向。

4.如权利要求1所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述掩膜板清洁装置包括位于掩膜板上表面和下表面的风刀，所述风刀内置离子风发射端，向所述掩膜板的表面吹送离子风，所述风刀设置在远离所述微粒检测装置的入口方向的一侧。

5.如权利要求4所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述风刀与水平面呈30-60°夹角设置。

6.如权利要求4所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述掩膜板清洁装置还包括至少两个排气装置，所述排气装置分别安装在掩膜板上下表面所在的空间，所述排气装置远离风刀。

7.如权利要求6所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述排气装置为条形，且与水平面呈30-60°夹角设置。

8.如权利要求4所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述清洁腔室的底部和顶部分别设有静电除尘装置。

9.如权利要求1所述的掩膜板自动清洁系统，其特征在于，所述控制装置通过可编程逻辑控制器集成，分块对所述掩膜板自动清洁系统中各装置进行控制。

10.一种曝光设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的掩膜板自动清洁系统。