[实用新型]一种接触式曝光掩膜版

权利要求书

1.一种接触式曝光掩膜版，包括一块苏打玻璃或石英玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基板的上面镀有金属铬薄膜，光刻工艺得到铬薄膜图案，铬薄膜图案上覆一层导电膜。

2.如权利要求1所述的接触式曝光掩膜版，其特征在于所述玻璃基板是正方形，边长为200mm，厚度3-8mm。

3.如权利要求1所述的接触式曝光掩膜版，其特征在于所述铬薄膜是溅射或沉积在玻璃基板上的，厚度为100-200nm。

4.如权利要求1所述的接触式曝光掩膜版，其特征在于：所述导电膜为透明导电膜，该透明导电膜为透明铟锡金属氧化物ITO薄膜，透明导电膜是正方形，边长为200mm，厚度为50-100nm。