[实用新型]晶圆清洗刷和晶圆清洗装置有效
申请号: | 201220317327.8 | 申请日: | 2012-07-02 |
公开(公告)号: | CN202698196U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | A46B13/02 | 分类号: | A46B13/02;B08B1/04;B08B3/08 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆清 洗刷 清洗 装置 | ||
1.一种晶圆清洗刷,其特征在于,包括刷盘、第一旋转轴、第一旋转马达以及直线马达,所述第一旋转马达经所述第一旋转轴驱动所述刷盘转动,所述直线马达驱动所述第一旋转轴作直线位移,所述刷盘是一直径大于或者等于晶圆的圆盘,所述圆盘的一个表面上设置有若干刷毛。
2.根据权利要求1所述晶圆清洗刷,其特征在于,还包括基板、摆动轴和摆动马达,所述摆动马达经所述摆动轴驱动所述基板作弧形摆动,所述第一旋转马达穿经所述基板,所述第一旋转马达能够相对所述基板转动。
3.根据权利要求1所述晶圆清洗刷,其特征在于,所述若干刷毛均匀设置于所述圆盘的一个表面上。
4.一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括用于吸附晶圆的吸盘、第二旋转轴、第二旋转马达、以及如权利要求1~3中任意一项所述的晶圆清洗刷,所述第二旋转马达经所述第二旋转轴驱动所述吸盘转动。
5.根据权利要求4所述晶圆清洗装置,其特征在于,所述吸盘具有一个直径与所述晶圆相匹配的圆形凹槽。
6.根据权利要求5所述晶圆清洗装置,其特征在于,还包括两排设有若干晶圆清洗喷嘴的喷水管,所述喷水管分别设置于所述晶圆正反面的斜上方。
7.根据权利要求6所述晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗喷嘴的角度可调。
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