[实用新型]光学镜片染色机

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学染色镜片加工过程中的染色设备。 

背景技术

由于太阳光中存在对人眼有害的紫外线，以及在夏天由于阳光过于强烈，对人眼造成过多的刺激，为了避免类似的情况，可以采用偏光或染色的镜片来保护眼睛，染色镜片的生产涉及到染色的药水和染色的设备，其中染色的设备多采用微波炉加热或油浴或水浴加热的方法使染色液在一定温度下渗透到镜片的单体里面，这种方法控制了温度但是没有办法控制染色时间，而处方镜片的光度极其复杂和多样，所以这样的染色方法很难适应光学镜片的染色需求。 

实用新型内容

    针对以上不足，本实用新型的目的在于提供一种光学镜片染色机，主要集中在两点：一是采用PLC编程的方法来固定染色的时间，而这个固定的染色时间由搅拌部分，油浴温度稳定部分，PLC部分以及气缸提升和下降部分组成；二是采用染色缸体上周半圆吸气方法来带走液体挥发的气体。 

本实用新型的技术方案是通过以下方式实现的：光学镜片染色机，包括染色时间执行部分、吸气部分和染色清洗干燥部分组成，染色时间执行部分由气缸、活塞、连杆和PLC控制系统组成，吸气部分由吸收环和吸气杆组成，吸气杆上连接有染色镜片，染色清洗干燥部分由染色缸体、超声波清洗机、清水槽、加热器和烘干箱组成，染色时间执行部分设在染色清洗干燥部分的染色缸体的上部，吸气部分设在染色时间执行部分和吸气部分和染色清洗干燥部分之间，并贴在染色缸体的垂直上方，其特征在于：所述的PLC控制系统控制气缸、连杆使染色镜片下降或提拉进入染色缸体染色。 

所述的吸收环是半圆周形的环，贴与染色缸体的液面。 

本实用新型结构，根据镜片球光的变量和镜片散光的变量采用PLC编程的方法，来决定固定染色的时间；在贴近染色缸体缸口的位置用吸气部分进行吸收，能够直接把气体带走，采用相同的染色时间时，会出现染色深度不同，所以对处方的试验可以得出合理浸泡时间，并最终得以保存在数据库中。 

附图说明

图1是本实用新型的主视图。 

图2是本实用新型的俯视图。 

图3是本实用新型的侧视图。 

具体实施方式

由图1知，光学镜片染色机，包括染色时间执行部分、吸气部分和染色清洗干燥部分组成，染色时间执行部分由气缸2、活塞1、连杆4和PLC控制3系统组成，吸气部分由吸收环6-1和吸气杆6组成，吸气杆6上连接有染色镜片7，染色时间执行部分设在染色清洗干燥部分的染色缸体5的上部，吸气部分设在染色时间执行部分和吸气部分和染色清洗干燥部分之间，并贴在染色缸体的垂直上方， PLC控制系统控制气缸、连杆带动染色镜片下降和提拉进入染色缸体5中的染色时间，吸收环6-1吸走染色液的气体，镜片染色后经过超声波、清水清烘干完成。 

由图2知，是本实用新型的俯视图。染色清洗干燥部分由染色缸体5、超声波清洗机8、清水槽9、加热器10和烘干箱11组成，这个部分主要是用来清洗和干燥染色完成的镜片，这样可以进行下一步镜片的硬化处理。 

由图3知，是本实用新型的侧视图。吸气部分由吸收环6-1和吸气杆6组成，吸收环6-1是半圆周形的环，贴与染色缸体5的液面。吸气部分，通过内部管道排到设备外面。其主要利用最近的原则，染色液的气体会从染色缸体5内部液面挥发，此时在贴近缸口的位置进行吸收，能够直接把气体带走，避免以往采用的高位吸收，也就是在染色缸体5的垂直上方吸收，这样在气体经过的路程中会有部分泄露，不利于气体的吸收；或者采用下压方式，就是染色缸体5上面有新鲜空气下压然后底部吸走，同样在下压过程中有部分气体会由于设备的不规则造成泄露。 

设备由气缸2运行的轨道通过活塞1和连杆4来执行染色镜片7提拉和下降的动作，而这个动作的控制来自于PLC控制系统3来完成。 

PLC控制系统3是一个模糊控制系统，它有两个变量来决定，一个变量是镜片的球光，另外一个变量是镜片的散光，综合这两个参数，可以得到镜片的固定染色时间。