[实用新型]集成波导二分配机构

权利要求书

1.一种集成波导二分配机构，其特征在于，包括：下层波导，其侧部设有一个第一端口；位于该下层波导上方的上层波导，其相对两侧部各设有一个第二端口；金属探针，竖直连接于该下层波导与上层波导之间；以及金属层，其间隔设置在该下层波导和上层波导之间。

2.根据权利要求1所述的集成波导二分配机构，其特征在于：该金属探针是嵌设在该下层波导与上层波导并穿越该金属层。

3.根据权利要求1所述的集成波导二分配机构，其特征在于：该金属探针包括金属化过孔、位于该金属化过孔一端的顶部金属片、位于该金属化过孔另一端的底部金属片以及至少一中间金属片。

4.根据权利要求1所述的集成波导二分配机构，其特征在于：该下层波导和下层波导均由多层的低温烧结陶瓷材质构成。

5.根据权利要求1所述的集成波导二分配机构，其特征在于：该下层波导和下层波导为矩形结构，二者顺向排布，较短的上层波导的外围轮廓完全落在较长的下层波导的外围轮廓中。

6.根据权利要求1所述的集成波导二分配机构，其特征在于：该下层波导和下层波导为矩形结构，二者垂直排布，上层波导的外围轮廓的两侧向外伸出于下层波导的外围轮廓的两侧。

7.根据权利要求1所述的集成波导二分配机构，其特征在于：该第一端口所在平面垂直于该两个第二端口所在平面。