[实用新型]大气压等离子处理系统有效

专利信息
申请号: 201220335340.6 申请日: 2012-07-11
公开(公告)号: CN203013672U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 岩城范明 申请(专利权)人: 富士机械制造株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 穆德骏;谢丽娜
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 大气压 等离子 处理 系统
【权利要求书】:

1.一种大气压等离子处理系统,其特征在于,具备: 

多个腔室,排成一列地配置; 

一个以上腔室间连通路,各个腔室间连通路分别将所述多个腔室中的相邻的两个腔室连通; 

搬运装置,经由所述一个以上腔室间连通路并通过所述多个腔室内来搬运被处理物; 

多个大气压等离子发生装置,与所述多个腔室对应设置,并且,各个大气压等离子发生装置分别能够在所述多个腔室中的与所述各个大气压等离子发生装置本身对应的腔室内部在大气压下产生等离子体;及 

一个以上腔室间分隔装置,与所述一个以上腔室间连通路对应设置,并且,各个腔室间分隔装置分别喷出气体以遮断所述一个以上腔室间连通路中的与所述各个腔室间分隔装置本身对应的腔室间连通路,利用所喷出的气流将相邻的两个腔室之间隔开; 

在所述多个腔室内依次对由所述搬运装置搬运的被处理物实施等离子处理。 

2.根据权利要求1所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述多个腔室内的气压被设定为相同。 

3.根据权利要求1所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述多个腔室内的气压被设定为正压。 

4.根据权利要求2所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述多个腔室内的气压被设定为正压。 

5.根据权利要求1~4中任一项所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述多个腔室中的配置在两端的两个腔室分别具有用于供所述搬运装置搬出或搬入被处理物的搬出搬入口,且,所述搬出搬入口向大气开口, 

所述大气压等离子处理系统具备两个腔室大气间分隔装置, 

所述两个腔室大气间分隔装置与所述配置在两端的两个腔室对应设置,并且,各个腔室大气间分隔装置分别喷出气体以遮断所述搬出搬入口,利用所喷出的气流将与所述各个腔室大气间分隔装置本身对应的腔室和大气之间隔开。 

6.根据权利要求5所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述两个腔室大气间分隔装置各自的每单位时间的喷出量比所述一个以上腔室间分隔装置各自的每单位时间的喷出量多。 

7.根据权利要求1~4中任一项所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间连通路在被处理物的搬运方向上的长度比能够利用所述大气压等离子处理系统处理的最大被处理物在所述搬运方向上的长度长。 

8.根据权利要求5所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间连通路在被处理物的搬运方向上的长度比能够利用所述大气压等离子处理系统处理的最大被处理物在所述搬运方向上的长度长。 

9.根据权利要求6所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间连通路在被处理物的搬运方向上的长度比能够利用所述大气压等离子处理系统处理的最大被处理物在所述搬运方向上的长度长。 

10.根据权利要求1~4中任一项所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。 

11.根据权利要求5所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。 

12.根据权利要求6所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。 

13.根据权利要求7所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。 

14.根据权利要求8所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。 

15.根据权利要求9所述的大气压等离子处理系统,其特征在于, 

所述一个以上腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。 

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