[实用新型]整体式卫浴室有效

专利信息
申请号: 201220339042.4 申请日: 2012-07-05
公开(公告)号: CN202990458U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 田宫明;内田贵之;宇佐美刚 申请(专利权)人: 株式会社好适特
主分类号: E04H1/12 分类号: E04H1/12;E03F5/04
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 郁旦蓉
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 整体 卫浴
【权利要求书】:

1.一种整体式卫浴室,其特征在于: 

在淋湿区域低于干燥区域的地面的整体式卫浴室中,所述淋湿区域的排水口与覆盖其上部的排水口盖设置在所述干燥区域。 

2.根据权利要求1所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

其中,所述排水口及所述排水口盖被配置于远离墙面的位置。 

3.根据权利要求1所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

其中,所述排水口盖与所述干燥区域的地面处于略平等的面。 

4.根据权利要求2所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

所述排水口盖与所述干燥区域的地面处于略平等的面。 

5.根据权利要求1所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

在所述淋湿区域的地面中,使用者载放足部使用的范围的地面,呈整面将向排水口方向的排水倾斜面设置为一面。 

6.根据权利要求2所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

在所述淋湿区域的地面中,使用者载放足部使用的范围的地面,呈整面将向排水口方向的排水倾斜面设置为一面。 

7.根据权利要求1所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分,在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方突出。 

8.根据权利要求2所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分,在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方突出。 

9.根据权利要求3所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分,在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方突出。 

10.根据权利要求4所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分,在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方突出。 

11.根据权利要求5所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分,在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方突出。 

12.根据权利要求6所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分,在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方突出。 

13.根据权利要求1所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

所述排水口盖的高度,被限制为与来自所述淋湿区域的水流入排水口的开口高度略相同的高度。 

14.根据权利要求2所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

所述排水口盖的高度,被限制为与来自所述淋湿区域的水流入排水口的开口高度略相同的高度。 

15.根据权利要求3所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

所述排水口盖的高度,被限制为与来自所述淋湿区域的水流入排水口的开口高度略相同的高度。 

16.根据权利要求4所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

所述排水口盖的高度,被限制为与来自所述淋湿区域的水流入排水口的开口高度略相同的高度。 

17.根据权利要求1至权利要求16任一项所述的整体式卫浴室,其特征在于: 

所述淋湿区域的在所述整体式卫浴室内分隔的隔板,由透明的部件构成。 

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