[实用新型]硅烷流化床气体分布装置有效
申请号: | 201220352608.7 | 申请日: | 2012-07-20 |
公开(公告)号: | CN202687982U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 朱晓龙;陈瑜;李东曦 | 申请(专利权)人: | 上海森松压力容器有限公司 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107;B01J8/24 |
代理公司: | 上海百一领御专利代理事务所(普通合伙) 31243 | 代理人: | 马育鳞 |
地址: | 200137 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅烷 流化床 气体 分布 装置 | ||
技术领域
本实用新型发明涉及的是一种气体分布器,尤其涉及一种用在硅烷流化床的气体分布装置。
背景技术
气体分布器或气体分布装置是流态化装置的核心重要部件之一。它的主要作用是使进入流化床中心的流体沿床断面均匀分布,不致使床层出现死床区。
气体分布装置结构是否合适,是流态化操作成败的关键之一。成功的分布器设计,主要体现在:其一,能长期保持流化床的稳定操作,不致因为颗粒沉积而造成压降明显改变;其二,能使流体沿床断面均匀分布,在分布器附近区域内,气-固充分接触、反应;其三,分布器中的孔眼或缝隙不被颗粒堵塞;其四,流体流经分布器的阻力损失尽量减小,能量消耗降低;其五,结构简单,制作及安装方便,在使用过程中便于更换。
现有技术中流化床使用的分布器不适用于硅烷流化床,并在实际生产中存在一些缺陷:其一:现有技术的分布器风帽结构在流化稳定性方面不够,常有死孔、死区现象的发生,影响反应效率的提高;其二:现有技术中的分布器风帽排布方式无法完全消除死区的发生,从而影响了分布板的抗沉积能力;其三,现有技术中的分布器磨蚀问题较严重,影响流化床长期稳定运转,分布器磨蚀后会使分布板压降降低,影响流体的均匀分布,使流化质量变差,工艺过程不能正常进行。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了提供一种能够长期稳定运行,无死孔、漏料现象,磨蚀少,不易结焦,并能提高流化床反应器的转化效率和质量的硅烷流化床气体分布装置。
为解决上述技术问题本实用新型硅烷流化床气体分布装置包括:气体分布板,其上设有进气孔;风帽,设置在所述进气孔上;物料收集管,设置在所述气体分布板上。风帽优选为半管式风帽,半管式风帽与气体分布板的连接形式为焊接。半管式风帽两个端口设为出气喷射孔。
所述进气孔呈正三角形或正方形或同心圆形均匀排布在所述分布板上,其开孔率为1%~5%。所述半管式风帽呈正方形交错排布或三角形交错排布或菱形交错排布或同心圆形交错排布。
所述气体分布板为锥形结构,半锥角为30~60度。
优选的,所述气体分布板半锥角为45~60度。
所述物料收集管设置在气体分布板底部,主要是收集硅烷流化床内的产品颗粒硅。所述物料收集管和气体分布板的连接形式为焊接或者螺纹连接。
附图说明
图1为本实用新型硅烷流化床气体分布装置结构示意图。
图2为本实用新型硅烷流化床气体分布装置剖视图。
图3为本实用新型硅烷流化床气体分布装置气体分布板的俯视图。
图4为本实用新型硅烷流化床气体分布装置半管式风帽剖视图。
具体附图标记如下:
1气体分布板 2半管式风帽 3进气孔
4物料收集管 5 出气喷射孔。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型硅烷流化床气体分布装置一种较佳实施方式做进一步详细说明。
实施例1:
如图1、图2所示,本实用新型硅烷流化床气体分布装置包括:气体分布板1,其上设有进气孔3;半管式风帽2,设置在所述进气孔3上,半管式风帽两个端口设为出气喷射孔5;
如图3、图4所示,半管式风帽2与气体分布板1的连接方式为焊接 ;
气体分布板1的半锥角为60°;物料收集管4与所述气体分布板底部圆孔处焊接;所述物料收集管规格为DN80。
进气孔3按照同心圆形排列均布在分布板上,其开孔率为3%。半管式风帽2按照同心圆形排布。所述半管式风帽的开孔位置位于以所述物料收集管轴线为中心的分布圆切线方向。
由于采用了半管式风帽2,能长期保持流化床的稳定操作,不致因为颗粒沉积而造成压降明显改变,使流体沿床断面均匀分布,在分布器附近区域内,气-固充分接触、反应,分布器中的孔眼或缝隙不被颗粒堵塞,可以使整个容器内的物料实现充分的混合,均匀分布,而不会出现死区和堵孔现象,提高了生产效率。半管式风帽2开孔位于分布圆切线方向,可以减少流体对半管式风帽2的磨蚀。本实用新型结构简单,制作及安装方便。
实施例2:与实施例1的区别在于,气体分布板1的半锥角设为30°或45°。
实施例3:与实施例1的区别在于,进气孔3的开孔率为1%或5%。
根据本实用新型实施例或发明内容所进行的技术方案均在本专利保护范围之内。
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