[实用新型]平面灰尘足迹拍摄遮光罩有效
| 申请号： | 201220361012.3 | 申请日： | 2012-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN202677039U | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 石世民 | 申请（专利权）人： | 石世民 |
| 主分类号： | G03B15/06 | 分类号： | G03B15/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 530012 广*** | 国省代码： | 广西;45 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平面 灰尘 足迹 拍摄 遮光 | ||
【权利要求书】：
1.一种平面灰尘足迹拍摄遮光罩，包括罩体、拍摄孔，其特征是：在罩体一侧底部边缘开一个掠射光照射窗，正对掠射光照射窗的罩体内壁上安置照射光反射装置。
2.根据权利要求1所述的遮光罩，其特征是：罩体上的掠射光照射窗是矩形的，大小能够调节。
3.根据权利要求1所述的遮光罩，其特征是：所述照射光反射装置为百叶式叶片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石世民，未经石世民许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220361012.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
