[实用新型]台面型双向触发二极管有效

专利信息
申请号: 201220366682.4 申请日: 2012-07-26
公开(公告)号: CN202721130U 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 吴金姿;保爱林 申请(专利权)人: 绍兴旭昌科技企业有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/861
代理公司: 绍兴市越兴专利事务所 33220 代理人: 蒋卫东
地址: 312000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 台面 双向 触发 二极管
【权利要求书】:

1.台面型双向触发二极管,其特征在于:包括硅基片,在硅基片的上表面设有第一扩散层,在硅基片的下表面设有第二扩散层;在第一扩散层上设有第三扩散层,在第二扩散层上设有第四扩散层,第三扩散层、第一扩散层、硅基片、第二扩散层和第四扩散层依次排列形成对称性的导电结构;其中,第一扩散层和硅基片之间设有第一PN结,第二扩散层和硅基片之间设有第二PN结,第三扩散层和第一扩散层之间设有第三PN结,第四扩散层和第二扩散层之间设有第四PN结;上述第一PN结、第二PN结、第三PN结和第四PN结均为平面结。

2.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:台面型双向触发二极管上下表面各形成一个凸台,第一PN结、第二PN结、第三PN结和第四PN结均暴露在凸台四周侧壁上,凸台四周侧壁上覆盖有钝化层。

3.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:所述二极管上下表面均沉积有金属导电层。

4.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:第一PN结与第三PN结之间的距离等于第二PN结与第四PN结之间的距离,均为2~20微米。

5.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:第三扩散层、第一扩散层、硅基片、第二扩散层和第四扩散层对称性导电结构为N++/P+/N/P+/N++。

6.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:第三扩散层、第一扩散层、硅基片、第二扩散层和第四扩散层对称性导电结构为N++/P+/N/P+/N++。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于绍兴旭昌科技企业有限公司,未经绍兴旭昌科技企业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220366682.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top