[实用新型]台面型双向触发二极管有效
申请号: | 201220366682.4 | 申请日: | 2012-07-26 |
公开(公告)号: | CN202721130U | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 吴金姿;保爱林 | 申请(专利权)人: | 绍兴旭昌科技企业有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/861 |
代理公司: | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人: | 蒋卫东 |
地址: | 312000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 台面 双向 触发 二极管 | ||
1.台面型双向触发二极管,其特征在于:包括硅基片,在硅基片的上表面设有第一扩散层,在硅基片的下表面设有第二扩散层;在第一扩散层上设有第三扩散层,在第二扩散层上设有第四扩散层,第三扩散层、第一扩散层、硅基片、第二扩散层和第四扩散层依次排列形成对称性的导电结构;其中,第一扩散层和硅基片之间设有第一PN结,第二扩散层和硅基片之间设有第二PN结,第三扩散层和第一扩散层之间设有第三PN结,第四扩散层和第二扩散层之间设有第四PN结;上述第一PN结、第二PN结、第三PN结和第四PN结均为平面结。
2.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:台面型双向触发二极管上下表面各形成一个凸台,第一PN结、第二PN结、第三PN结和第四PN结均暴露在凸台四周侧壁上,凸台四周侧壁上覆盖有钝化层。
3.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:所述二极管上下表面均沉积有金属导电层。
4.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:第一PN结与第三PN结之间的距离等于第二PN结与第四PN结之间的距离,均为2~20微米。
5.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:第三扩散层、第一扩散层、硅基片、第二扩散层和第四扩散层对称性导电结构为N++/P+/N/P+/N++。
6.如权利要求1所述的台面型双向触发二极管,其特征在于:第三扩散层、第一扩散层、硅基片、第二扩散层和第四扩散层对称性导电结构为N++/P+/N/P+/N++。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于绍兴旭昌科技企业有限公司,未经绍兴旭昌科技企业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220366682.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类