[实用新型]一种圆管还原炉

说明书

技术领域

本实用新型涉及氧化钨还原系统，具体为一种圆管还原炉。

背景技术

在氧化钨还原工艺中，需要用到圆管还原炉。圆管还原炉是以氢气作为还原气氛，在设定的工艺温度条件下，对粉末料进行还原的大型设备，现在一般使用十五根炉管的还原炉，炉子全长约16米，宽约3米，高约2.3米，热最高工艺温度可达1050℃，日产量可达1吨以上。现有的十五管炉在正常生产时，需要输入的氢气流量为40m³/h,这样虽然能满足生产需要，但是由于氢气输入速度较大，造成大量过余氢气的浪费，提高了生产成本。

实用新型内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种圆管还原炉，以解决上述背景技术中的缺点。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：

一种圆管还原炉，包括回氢管、上排管和下排管，所述上排管为八根管道，所述下排管为七根管道，所述回氢管与所述上排管和下排管相通，所述回氢管上连接有氢气旁通管，氢气通过氢气旁通管回流至所述回氢管，所述氢气旁通管上设有自动阀。

本实用新型中，所述氢气旁通管的氢气回流入口处设有自动开闭的弹片。

有益效果

本实用新型结构简单，能保证进料和出料过程中氢气的流量稳定，而且减少了氢气浪费，降低了生产成本。

附图说明

图1为一种圆管还原炉的结构图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。

参见图1，一种圆管还原炉的结构图，一种圆管还原炉，包括回氢管4、上排管3和下排管2，所述上排管3为八根管道，所述下排管2为七根管道，所述回氢管4与所述上排管和下排管相通，所述回氢管4上连接有氢气旁通管1，氢气通过氢气旁通管1回流至所述回氢管4，所述氢气旁通管上设有自动阀5。

本实用新型中，所述氢气旁通管的氢气回流入口处设有自动开闭的弹片。

当上排管进料时，为了节约氢气，还原炉将自动把氢气流量由原来的40m³/h调整为12m³/h，这时因为减少的氢气会导致炉子进氢压力增大而影响下层炉管氢气稳定，为了确保下排管氢气压力的平衡稳定，当上排管进料、氢气流量降低时氢气旁通管上的自动阀会打开，这样多余的氢气就通过氢气旁通管回流到回氢管中，这样就保证了下排管的氢气流量的稳定。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征及本实用新型的优点，本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内，本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。