[实用新型]导电玻璃

说明书

技术领域

本实用新型属于特种玻璃领域，尤其涉及一种导电玻璃。

背景技术

目前，透明导电氧化物薄膜有掺氟SnO₂薄膜(FTO)、掺铝ZnO薄膜(AZO)和In₂O₃：Sn(ITO)薄膜等。与前两者相比，ITO薄膜在同等电导率下，具有膜层薄、可见光透过率高及颜色中性等优点，因此其在液晶显示及照明等领域应用相当广泛。但是由于ITO薄膜中，In材料在自然界储量少、在制备过程中对人体有害，且Sn和In的原子量较大,成膜过程中容易渗入到衬底内部，毒化衬底材料，尤其在液晶显示器件中污染现象严重。因此，有必要找到一种ITO薄膜的替代产品。

ZnO基透明导电薄膜具有原材料易得，价格便宜，无毒及比ITO更容易蚀刻等优势，同时具有与ITO相比拟的光电特性。目前，ZnO-TCO薄膜被认为是极具开发潜力的功能薄膜之一，已成为可能替代ITO薄膜的研究热点。当透明导电膜层厚度超过0.1μm时，膜层中的多次干涉就会产生可见的颜色，且膜层厚度的增加会导致反射率和色差的提高，因此要实现ZnO-TCO薄膜的工业应用，必须要改善这些问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种导电玻璃，解决现有技术中ZnO-TCO导电玻璃透光率不高，色差大、性能不稳定的技术问题。

本实用新型是这样实现的，

一种导电玻璃，包括相层叠的玻璃基底层、钠离子阻挡层及导电膜层，还包括增透层，该增透层层叠于该导电膜层之上。

进一步，该增透层为二氧化硅薄膜或氟化镁薄膜。

进一步，该增透层的厚度为30～90纳米，可见光折射率为1.35～1.5。

进一步，该增透层增透层厚度为50～90纳米，可见光折射率为1.6～1.8。

进一步，该钠离子阻挡层为SiN_xO_y薄膜，其中0.7<x<1.2，0.25<y<1。

进一步，该钠离子阻挡层的厚度为50～90纳米，可见光折射率为1.5～1.7。

进一步，该导电膜层的厚度为200～400纳米。

进一步，该导电膜为氧化锌膜、ITO膜或FTO膜。

本实用新型导电玻璃，通过在导电膜上增加一层增透层，该增透层和导电膜层及钠离子阻挡层一起形成三层减反射膜系，实现该导电玻璃对可见光透过率的显著提升。

附图说明

图1是本实用新型实施例导电玻璃结构图；

图2是对比例导电玻璃结构图；

图3是本实用新型实施例与对比例透过率对比曲线。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1，图1现实本实用新型实施例导电玻璃结构，该导电玻璃包括相层叠的玻璃基底层1、钠离子阻挡层2及导电膜层3，还包括增透层4，该增透层层4叠于该导电膜层3之上。具体的，该钠离子阻挡层2层叠于该玻璃基底层1之上，该导电膜层3层叠于该钠离子阻挡层2之上，该增透层4层叠于该导电膜层3之上（增透层4层叠于该导电膜层3的与钠离子阻挡层2相对的表面）。

本实用新型实施例导电玻璃，通过在导电膜层上增设一层增透层，该增透层能和该导电膜层、钠离子阻挡层一起形成三层减反射膜系，射入光在导电玻璃的四层界面处发生相消干涉，从而实现导电玻璃在可见光区的透过率大大增加；特别结合上述各层的厚度，使得这种相消干涉的发生程度进一步提升，使导电玻璃在可见光的透过率进一步增强。

该玻璃基底层的厚度没有限制，优选为1mm-5mm，该玻璃基底层的材质美欧限制，优选为铁离子含量低于200PPM的超白浮法玻璃基层，其在可见光段透过率大于90%。

该钠离子阻挡层的厚度为50～90纳米，材质没有限制，优选为SiN_xO_y（0.7<x<1.2，0.25<y<1）化合物，其在可见光段的折射率为1.5～1.7。该钠离子阻挡层能够有效阻挡玻璃基底层中的钠离子渗透至导电膜层中，防止钠离子对导电膜层造成破坏，同时该钠离子阻挡层能够有效增强薄膜体系（钠离子阻挡层、导电膜层及增透层）在玻璃基底层上的附着力。该钠离子阻挡层与导电膜层及增透层一起形成三层的减反射膜系，能够对导电玻璃在可见光段的透光率大大增强。