[实用新型]一种镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜设备，包括真空腔室（11）、布气管道以及在所述真空腔室（11）中相对设置的基片（12）和靶材（13），其特征在于，所述布气管道设置在所述真空腔室（11）内的进气口（14）具体为两组，包括第一组进气口和第二组进气口，其中的所述第一组进气口设置在靠近所述靶材（13）的一侧，所述第二组进气口设置在远离所述靶材（13），且靠近所述基片（12）的一侧。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一组进气口和所述第二组进气口的开设方向均指向所述基片（12）和所述靶材（13）的中心部分。

3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一组进气口和所述第二组进气口的具体数量均为相对设置的两个。

4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述布气管道内的气体为混合气体，包括反应气体和放电气体。

5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述放电气体具体为Ar，所述反应气体包括氧气、氮气、甲烷和硫化氢。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述布气管道内气体的流量大小由MFC控制。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一组进气口的进气流量具体为80sccm，所述第二组进气口的进气流量具体为20sccm。

8.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一组进气口的进气流量具体为60sccm，所述第二组进气口的进气流量具体为40sccm。