[实用新型]熔炼设备有效
申请号: | 201220386548.0 | 申请日: | 2012-08-06 |
公开(公告)号: | CN203065598U | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 阮毅敏;E·A·库恩;J·S·于贝尔奥尔;D·J·杜克 | 申请(专利权)人: | 美铝公司 |
主分类号: | C25C3/08 | 分类号: | C25C3/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 钱亚卓 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 熔炼 设备 | ||
1.一种熔炼设备,其用于在霍尔-埃鲁特电解槽中由氧化铝电解生产金属铝,所述霍尔-埃鲁特电解槽具有阳极、阴极、电解液和熔炼坩埚,所述熔炼坩埚用于容纳所述电解液、氧化铝和液体铝层,所述熔炼坩埚具有底部和侧部且所述铝层在所述熔炼坩埚的底部上方具有指定高度,其特征在于,所述熔炼设备包括:
壁,所述壁设置在所述熔炼坩埚中,所述壁在所述熔炼坩埚中限定出子区域,并且所述壁延伸所述熔炼坩埚的长度和宽度中的至少一个的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁在所述熔炼坩埚的底部上方具有的高度超过所述熔炼坩埚中所述铝层的所述指定高度。
3.根据权利要求2所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁具有延伸到所述电解液中的高度。
4.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,在熔炼期间,所述壁的高度超过所述阳极的下表面,使得所述阳极紧邻所述壁并置但是不与所述壁接触。
5.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁能够引导熔融铝在电磁力的影响下沿着由所述壁限定的所述子区域内的流动路径运动。
6.根据权利要求5所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁在所述熔炼坩埚内限定出至少2个子区域。
7.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁是连续的。
8.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁具有多个间隔开的子元件,所述子元件布置为这样的图案,所述图案限定所述壁。
9.根据权利要求8所述的熔炼设备,其特征在于,所述图案为线。
10.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁与所述熔炼坩埚的中线平行地延伸。
11.根据权利要求10所述的熔炼设备,其特征在于,所述熔炼设备还包括在所述熔炼坩埚中的附加壁,所述附加壁限定出附加子区域。
12.根据权利要求11所述的熔炼设备,其特征在于,所述附加壁设置成与第一壁大致垂直。
13.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁在熔炼操作期间增大在电解液的另一个区域中具有的氧化铝进给部附近的电解液的速度。
14.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁至少部分地由TiB2构成。
15.根据权利要求3所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁用作阴极,金属铝通过电解作用沉积在所述阴极上。
16.根据权利要求15所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁延伸到靠近所述阳极的高度,并且支持所述壁和所述阳极之间的水平地取向的电流。
17.根据权利要求16所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁降低所述阳极和阴极之间的电阻,否则在没有所述壁的情况将存在所述电阻。
18.根据权利要求8所述的熔炼设备,其特征在于,所述间隔开的子元件为TiB2板的形式。
19.根据权利要求18所述的熔炼设备,其特征在于,所述板插入到所述熔炼坩埚的底部中的狭槽内。
20.根据权利要求1所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁至少部分地由氧化铝构成。
21.根据权利要求20所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁被成比例地设定成使得所述壁在熔炼期间存留的时间与所述电解槽的阳极所存留的时间一样长。
22.根据权利要求20所述的熔炼设备,其特征在于,所述壁为氧化铝块的形式。
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