[实用新型]一种光学干涉薄片的制备设备有效
| 申请号： | 201220395192.7 | 申请日： | 2012-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN202766613U | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 张彬贤 | 申请（专利权）人： | 珠海乐通新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/24 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 温旭 |
| 地址： | 519000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 干涉 薄片 制备 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学干涉薄片制备设备，其特征在于：包括：
一光学镀膜机，其内腔抽真空，其二相对的侧面分别设有一真空封辊，所述真空内腔内设有用于喷射镀膜所需粒子的粒子蒸发源；
第一卷绕机构及第二卷绕机构，其分别设置于与所述二真空封辊相邻的位置，使得安装于第一或第二卷绕机构上的柔性基底材料可顺序通过一真空封辊、真空内腔及另一真空封辊，从而卷绕于第二或第一所述卷绕机构上；
第一卷绕电机及第二卷绕电机，其分别与所述第一、第二卷绕机构连接，正向和/或反向驱动其所对应的卷绕机构转动。
2.根据权利要求1所述的制备设备，其特征在于，还包括一用于控制所述二卷绕电机的控制单元，其与所述而卷绕电机信号连接。
3.根据权利要求2所述的制备设备，其特征在于，所述二卷绕电机内设减速器，卷绕电机的卷绕速度为1CM/S~100M/S可调 。
4.根据权利要求3所述的制备设备，其特征在于，所述二卷绕电机的卷绕速度为10CM/S~10M/S可调。
5.根据权利要求2至4任一所述的制备设备，其特征在于，所述真空内腔内设有用于增加制成的光学干涉薄片的致密度的离子辅助设备。
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