[实用新型]一种激光褪火设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及面板制造领域，尤其涉及一种激光褪火设备。

背景技术

在低温多晶硅激光褪火工艺过程中，玻璃基板的宽度一般大于激光光束的宽度。高能量准分子光源产生激光光束后经由投射系统与光学镜组的光学调变，能够将矩形的激光光束转换为细长型的激光光束输出，最后经由光学系统投射于非晶硅薄膜的玻璃基板上，利用扫描的方式依序完成大面积的成膜。为了保证玻璃基板褪火量产的品质与速度，通常依照扫描频率调整光源以控制产生的射激光光束宽度。

传统的激光褪火设备通常采用单光束的激光光束对玻璃基板进行加工，激光光束宽度一般在300mm左右。但是四代玻璃基板以及四代以上的玻璃基板宽度远远大于激光光束的宽度，激光褪火应用于四代玻璃基板以及四代以上的玻璃基板时，由于褪火设备激光光束宽度较窄，因此需要进行多次扫描才能完成整张玻璃基板的激光褪火工艺。但是重复的扫描方式极大地降低了玻璃基板加工的产能，不利于量产。同时由于重复扫描，激光能量的稳定性无法得到保证，玻璃基板加工的良品率受到限制难以提高。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种激光褪火设备，以解决传统的激光褪火设备激光光束宽度较窄的问题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种激光褪火设备，包括：

放置玻璃基板的载台；

位于所述载台上方的，用于发射激光光束的光源；

设置于所述光源的出射光线行进方向上的第一光学模块；所述第一光学模块用于将所述光源发射的激光光束改变为向下的面向所述载台的第一激光光束，和射向位于所述第一光学模块一侧的第二光学模块的第二激光光束；

设置于所述第二激光光束行进方向上的所述第二光学模块至少有一个，所述第二光学模块用于将所述第二激光光束改变为至少有一束向下的面向所述载台的第三激光光束；在移动照射所述载台时，所述第三激光光束的照射范围与所述第一激光光束的照射范围不同。

进一步地，移动照射所述载台时，所述第三激光光束的照射范围与所述第一激光光束的照射范围部分重合，所述第三激光光束的照射范围的宽度与所述第一激光光束的照射范围的宽度之和大于所述第一激光光束的照射范围的宽度。

进一步地，移动照射所述载台时，所述第三激光光束的照射范围与所述第一激光光束的照射范围无缝相接，所述第三激光光束的照射范围的宽度与所述第一激光光束的照射范围的宽度之和等于所述第一激光光束的照射范围的宽度的两倍。

进一步地，所述第一光学模块为直角指向所述载台的倒置的直角三棱镜，其中，所述直角三棱镜的第一直角面将所述光源发射的激光光束反射为竖直向下的面向所述载台第一激光光束；所述直角三棱镜的第二直角面将进入所述直角三棱镜的激光光束折射为平行于所述载台出射的第二激光光束。

进一步地，所述第二光学模块为一个；

所述第二光学模块包括具有第一反射面的第一光学子模块，和具有相互垂直的第二反射面、第三反射面的第二光学子模块；所述第二光学子模块位于所述第一光学子模块上方；

所述第一反射面将平行于所述载台的所述第二激光光束反射为垂直向上的射向所述第二反射面的第四激光光束，所述第四激光光束经所述第二反射面、所述第三反射面反射后成为向下的面向所述载台的所述第三激光光束。

进一步地，所述第一光学子模块为全反射面；和/或，所述第二光学子模块为相互垂直，且反射面相对的两个全反射面。

进一步地，所述第一光学子模块为具有斜面的棱镜；和/或，所述第二光学子模块为直角三棱镜。

所述直角三棱镜中所述第一直角面的宽度为300mm到350mm，所述第二直角面宽度为300mm到350mm。

所述第一光学子模块的所述第一反射面的宽度为300mm到350mm，所述第二光学子模块的所述第二反射面的宽度为300mm到350mm，所述第二光学子模块的所述第三反射面的宽度为300mm到350mm。