[实用新型]一种立式化学气相沉积装置有效
申请号: | 201220399133.7 | 申请日: | 2012-08-13 |
公开(公告)号: | CN202786417U | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 刘俊峰;吕勇;陈健健;李先林;魏雪林 | 申请(专利权)人: | 海南汉能光伏有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 570125 海南省海口*** | 国省代码: | 海南;66 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 立式 化学 沉积 装置 | ||
1.一种立式化学气相沉积装置,包括反应腔和布气盒,所述反应腔包括多个反应区,其特征在于,该装置还包括位于所述反应区中间位置的中空隔板;
其中,所述中空隔板顶部设置有输气孔,且所述中空隔板的侧壁上设置有多个排气孔。
2.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板侧壁上的排气孔间距在竖直方向上呈梯度分布。
3.根据权利要求2所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板侧壁上的排气孔的孔径尺寸在竖直方向上从上到下依次减小。
4.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板侧壁上的排气孔在竖直方向上均匀分布,且所述中空隔板侧壁上的排气孔的孔径在竖直方向上从上到下依次减小。
5.根据权利要求1-4任一项所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板侧壁上的排气孔在水平方向上呈均匀分布。
6.根据权利要求5所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板侧壁上的排气孔在所述中空隔板的左右两个侧壁上对称分布。
7.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述排气孔为圆柱形。
8.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述排气孔为圆锥形。
9.根据权利要求8所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述圆锥的横截面积在沿所述反应区到所述中空隔板的方向上逐渐减小。
10.根据权利要求8所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述圆锥的横截面积在沿所述反应区到所述中空隔板的方向上逐渐增大。
11.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板的材料为导电材料。
12.根据权利要求11所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板的材料为金属。
13.根据权利要求11或12所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板与外部电源相连;所述反应腔接地。
14.根据权利要求13所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板与所述反应腔通过绝缘部件固定在一起。
15.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积装置,其特征在于,所述中空隔板通过所述输气孔与所述布气盒相连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的