[实用新型]改良的抛光机上抛头

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种抛光机上抛头，特别是涉及一种设置简单，使用简易、方便，可充分提高工件研磨抛光的速度、精度和生产效率，其可有效避免被研磨抛光工件发生撞击损坏、破裂的情形，提高工件良率，而极符实际适用性、理想性和进步性的抛光机上抛头。

背景技术

现有习知的对玻璃基板工件(例如镀膜玻璃)实施研磨抛光用的抛光机的抛光头，大抵如图1、图2、图3所示，主要设有基座10，安设在抛光机的机台并通过支架101被驱动机构(图未示)实施左右位移和做垂直或具仰角摆动的升降动作；动力装置11，设有第驱动装置111，为气压缸，安设在基座10，设有驱动杆1110；连接轴12，线性位移的滑设在基座10，一端连接固设在动力装置11的第一驱动装置111的驱动杆1110，可被第一驱动装置111驱动在基座10做前、后(或上、下)位移动作；上定盘13，供抛光部件A(如氧化铈)安置在底面，通过现有的浮动机构，例如万向轴承14安设在连接轴12下端，通过万向轴承14的运作，可在连接轴12上自由的转动，及可以以连接轴12为基准自由的上、下倾斜摆动。

对安置在抛光机的下定盘B的工件C实施研磨抛光动作时，该上抛头的基座10被驱动机构(图未示)实施垂直或具仰角摆动的下降动作，使连接轴12可以以垂直形态对应着下定盘B的盘面，继之，通过第一驱动装置111的驱动杆1110外伸动作，该连接轴12和上定盘13将逐一下降，使安设在上定盘13的抛光部件A触压于位在下定盘B的工件C上表面，而通过抛光机的下定盘B呈转动运作，该安设在下定盘B上的工件C便可在一并转动中，令表面被上定盘13的抛光部件A逐一实施研磨抛光动作。其中，由于该基座10可被抛光机的驱动机构驱动左右位移，及该上定盘13通过万向轴承14安设在连接轴12，而可随时保持自由转动，故当上定盘13将抛光部件A触压于对应转动的工件C时，该上定盘13和抛光部件A将不但可被带动转动，且可在左、右位移中对工件C做均匀性研磨抛光动作。

上述，由于上定盘13是藉万向轴承14安设在连接轴12，而具上、下自由摆动的浮动效果，故安设在上定盘13的抛光部件A，将可随着上定盘13的摆动而自动以面接触形态触压工件C达到均匀、平整的研磨抛光效果。

上述的上抛头的设置和运作，固然可对诸如玻璃基板类的工件提供研磨抛光效果，但仍有下述缺陷：

1、由于上定盘13因万向轴承14之故会自由转动，故其将抛光部件A触压工件C后，该实施研磨抛光的动力，主要是藉下定盘B的转动力提供，但此单向施力的方式却有研磨抛光速度慢和生产效率较低的缺陷。

2、承上项所述，为了提升研磨抛光的速度，通常业者会增加上定盘13的下压力(即上抛头的下压力)，但此却极易使研磨抛光的工件C产生高热，甚而发生工件变形、损坏现象。

3、由于基座10会随时携带着动力装置11的第一驱动装置111、连接轴12和上定盘13做垂直或具仰角摆动的升降动作，而上定盘13因万向轴承14又会自由的上下摆动，故当基座10或连接轴12上升扬起或下降时，该上定盘13必定会向一侧偏摆下垂形成斜置状态，此种情形下，最常发生的状况是上定盘13下降时的偏摆倾角过大，致安设于其上的抛光部件A连带以较大倾角接触工件C，而该工件C在上定盘13和抛光部件A下降压力和大倾角的单点接触作用下，将极易发生被撞击损伤、破裂形成不良品情形。

4、承上项所述，为了改善工件C被倾角过大的上定盘13撞击破坏情形，通常业者将上定盘13下降至接近工件C表面的设定高度时先行停止，继之，以双手对大倾角的上定盘13扶正使其尽量接近水平，继的，再启动动力装置11的第一驱动装置111使上定盘13下降触压工件C。但是，这种实施方式不但麻烦、不便、浪费时间和人力，而且，更有工作效率低、生产速度慢的缺点。

由此可见，上述现有的抛光机上抛头的动力装置在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决抛光机上抛头的动力装置存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的抛光机上抛头的动力装置，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。

发明内容

本实用新型的主要目的是提供一种改良的抛光机上抛头，其可以使工件研磨抛光的速度、效率、精度更为提升，还可以使被研磨抛光工件具有不易发生撞击损毁效果。