[实用新型]气体流量调节装置有效

专利信息
申请号: 201220399602.5 申请日: 2012-08-13
公开(公告)号: CN202838039U 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 李昌勇;马光明 申请(专利权)人: 宇星科技发展(深圳)有限公司
主分类号: G05D7/06 分类号: G05D7/06
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 李新林
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 气体 流量 调节 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种气体流量调节装置,尤其涉及一种用于大气颗粒物在线监测仪的气体流量调节装置。

背景技术

我国空气颗粒物污染日趋严重,已经成为未来空气污染发展的主要趋势。目前,对空气中颗粒物质的检测可分为在线监测和取样监测两种方法。在线监测的优点是测试时间短、操作简单、准确度高。该方法在计算大气中颗粒物的浓度时需要先计算所检测的空气的体积,因此测试过程中需要一个稳定的气体流量,才能准确计算在一定时间内抽取到的气体的总体积。然而,要将气体的流量控制在一个稳定的状态,需要一个自动的调节装置。但是,国内专门用于仪器中进行流量自动调节的产品很少见,仪器中流量调节部件的灵敏性和稳定性较低,难以将气流的流量值稳定控制在所要求的最小范围内,影响了测量结果的准确性。

发明内容

本实用新型的目的在于为克服现有技术的缺陷,而提供一种自动的气体流量调节装置,用于稳定、准确地控制气体流量。

为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:一种气体流量调节装置,包括一气室和一转子,所述气室设有一进气口和一出气口,在该进气口和出气口的下方设有一连通气室内外的圆弧形切槽,气室的顶部中心设有一圆柱形通孔;所述转子包括圆形转片和设在转片中心上方的圆柱形连接杆,所述转片的侧面设有一圆弧形切口,该转片的厚度大于切槽的高度;所述转子放置于气室内部,连接杆旋转密封配合由通孔穿出气室外部。

进一步说,所述气室包括一圆桶形底座和一倒圆桶形上盖板。

进一步说,所述底座的桶壁设有一出气口和一圆弧形切槽。

进一步说,所述上盖板设有一进气口,该上盖板的桶底中心设有一圆柱形通孔。

具体地说,所述切口的深度为3毫米。

具体地说,所述切槽的高度为1毫米。

具体地说,所述切槽和切口均为120°的圆弧形。

具体地说,所述通孔的直径与连接杆的直径相等。

具体地说,所述连接杆与上盖板的契合处设有一密封性O圈。

具体地说,所述连接杆与转片通过螺钉固定连接,底座和上盖板通过螺钉固定连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:1、本实用新型能够将气体流量准确稳定地控制在所需流量范围;2、本实用新型可实现自动调节气体流量。

附图说明

图1为本实用新型优选实施例的分解示意图。

图2为本实用新型优选实施例的各构件工作框图。

具体实施方式

为了更充分理解本实用新型的技术内容,下面结合具体实施例和附图对本实用新型的技术方案进一步介绍和说明。

实施例

如图1、图2所示,一种用于PM2.5在线监测仪的气体流量调节装置,包括圆桶形的底座5、倒圆桶形的上盖板1和转子;底座5的桶壁设有一个出气口7,在靠近底座的底部位置设有一道120°的圆弧形切槽6,该切槽6的高度为1毫米;上盖板1的桶壁设有一个进气口3且上盖板1的桶底中心设有一个直径与连接杆11直径一致的圆柱形通孔2;转子的圆形转片9的侧面有一道120°的圆弧形切口8,该切口8的深度和厚度均为3毫米,转片9的中心有一突起的圆柱筒10,连接杆11的一端插入圆柱筒10中并通过螺钉将转片与连接杆11固定连接;将转子放置于底座5的底部,为了防止装置漏气,盖上上盖板1之前将一个密封性O圈12套到转子的连接杆11上,然后再盖上上盖板1并使连接杆11穿过上盖板1的通孔2与外部联轴器连接,在电机的带动下转动。

如图2所示,为PM2.5在线监测仪系统的各构件工作框图。本实用新型的进气口3前方安装有反馈流量值的流量传感器,经过滤纸的气体从进气口3进入本实用新型的气室内,切槽6与切口8重合时,空气从重合处进入气室。由进气口3进入的气体和由重合处进入的空气在气室内混合并通过出气口7排出,并且出气口7的气流量恒定,因此,切口8与切槽6的重合度越大,由重合处进入气室的空气就越多,而由进气口3进入的气体就相应减少。当切口8与切槽6完全重合时,由重合处进入的空气量最多,而由进气口3进入的气体则最少。因此,可以通过调节转子的位置改变切口8与切槽6的重合度从而调节气路中气体流量。装置运转时,通过程序设定气路所需流量值,在流量传感器和控制器的配合下,控制电机带动转子旋转到所需最佳位置。

以上所述仅以实施例来进一步说明本实用新型的技术内容,以便于读者更容易理解,但不代表本实用新型的实施方式仅限于此,任何依本实用新型所做的技术延伸或再创造,均受本实用新型的保护。

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