[实用新型]挥发性有机物二次浓缩处理系统有效

专利信息
申请号: 201220406207.5 申请日: 2012-08-16
公开(公告)号: CN202740979U 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: 蔡庆生;庄锦烽 申请(专利权)人: 力技科技工程股份有限公司
主分类号: B01D53/02 分类号: B01D53/02
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 张瑾
地址: 中国台湾新北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 挥发性 有机物 二次 浓缩 处理 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及废气处理系统,特别涉及一种挥发性有机物二次浓缩处理系统。

背景技术

半导体及光电产业的生产过程常常需要利用化学反应完成,此类化学反应多半会产生许多具有毒性的有机废气,例如挥发性有机物(volatile organic compounds, VOCs),而这些VOCs绝大部份属于有害性的空气污染物(hazardous air pollutants;HAPs),人体长期暴露于含高浓度VOCs的环境中会有产生中毒及致癌性肿瘤等反应。此外,大气中的VOCs会产生光化学反应,导致大气中臭氧浓度升高及产生高氧化性污染物。因此,这些含有挥发性有机物的废气排放前必须先加以处理,不可直接排放到大气中。

由于半导体制造业和光电业的废气排放量大,且VOCs的含量属中低范围,一般废气处理的方式都是采用沸石浓缩转轮系统,以将大风量低浓度的VOCs废气浓缩成小风量高浓度的气体,用以节省废气焚化过程中的燃料费用。

对处理含有VOCs的废气而言,现有的系统如图1所示,当废气来源10进入沸石转轮11吸附后,再经热交换器12进行热交换以提高废气温度,经沸石转轮11将浓缩下来的成份进行脱附,并送入热交换器13进入燃烧室14后再排放,而排放前的热交换器12、热交换器15连贯,其目的在于做热回收以节省能源。

具体而言,废气在约25℃的温度进入沸石转轮11进行吸附及浓缩,然后经热交换器12后,废气的温度大约为200~300℃,将浓缩的成份脱附,于脱附后,废气温度会降至大约70℃,因此需再经过热交换器13,使其升温至约500℃,以利于燃烧室14加热至700~800℃,将废气中的有害物质转变成无害成份。

该系统虽然可以实现处理VOCs的功能,但是操作温度需在700℃以上,才能将废气做有效的处理,因此需要大量能源(燃料),将废气加热至所需的操作温度,造成废气处理上大量能源的浪费。

发明内容

为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种挥发性有机物二次浓缩处理系统,可提高批量处理的效率,且节省能源。

本实用新型的挥发性有机物二次浓缩处理系统,包含一第一沸石转轮,连接至一工艺废气管道,将流入工艺废气管道且进入第一沸石转轮的废气吸附及浓缩;及一第二沸石转轮,串联至该第一沸石转轮,将从第一沸石转轮脱附的废气进行第二阶段的吸附及浓缩。

优选地,上述挥发性有机物二次浓缩处理系统还包含一与第一沸石转轮连接的加热器,用于将吸附在第一沸石转轮上的废气脱附。

优选地,所述挥发性有机物二次浓缩处理系统还包含一与第二沸石转轮连接的加热器,用于将吸附在第二沸石转轮上的废气脱附。

优选地,所述挥发性有机物二次浓缩处理系统中所述第一沸石转轮的浓缩倍率为15~20。

优选地,所述挥发性有机物二次浓缩处理系统还包含多个沸石转轮与所述第二沸石转轮并联。

优选地,所述多个沸石转轮与所述第二沸石转轮具有不同挥发性有机物浓度的处理能力。

本实用新型具有以下有益效果:

与常见的处理含有VOCs废气的系统相比,本实用新型的挥发性有机物二次浓缩处理系统可以提高批量处理的效率,且节省能源。

附图说明

图1是现有处理含有VOCs废气的系统示意图;

图2是本实用新型实施例1的VOCs二次浓缩处理系统示意图;

图3是本实用新型实施例1的VOCs二次浓缩处理系统中第一沸石转轮与附属装置的局部放大图;

图4是本实用新型实施例2的VOCs二次浓缩处理系统示意图。

主要元件符号说明:

10、废气来源;                     11、沸石转轮;

12、热交换器;                    13、热交换器;

14、燃烧室;                         15、热交换器;

20、二次浓缩处理系统;       22、第一沸石转轮;

24、第二沸石转轮;              30、工艺废气管道;

31、入口管道;                     32、出口管道;

33、工艺废气管道;               34、 入口管道;

35、出口管道;                      40、第一废气来源;

41、光阻涂布站;                    42、显影站;

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