[实用新型]基于控制腐蚀的气囊式研抛装置有效
| 申请号： | 201220407973.3 | 申请日： | 2012-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN202825477U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B13/01 | 分类号： | B24B13/01;B24B41/04;B24B51/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨引雪 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 控制 腐蚀 气囊 式研抛 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，其特征在于：还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，承载机构使被加工元件全部浸泡在腐蚀液储液槽内，承载机构另一侧与转轴固定连接；所述设置抛光头主体上的气囊内表面设置有用于生成稳定环带温度场的加热装置，加热装置与控制装置连接。
2.根据权利要求1所述的基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，其特征在于：所述气囊式抛光头的气囊外表面上设置有抛光皮。
3.根据权利要求2所述的基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，其特征在于：所述加热装置是设置在气囊外表面的环形电热丝。
4.根据权利要求3所述的基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，其特征在于：所述控制装置包括工业PC和用于控制加热装置加热温度的温度控制装置。
5.根据权利要求1至4任一所述的基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，其特征在于：所述抛光头主体远离被加工件一端设置有电机，另一端设置气囊，抛光头主体内设置有导电环和气泵管，导电环一端与控制装置电连接，另一端与控制加热装置电连接。
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