[实用新型]一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚有效
申请号: | 201220428456.4 | 申请日: | 2012-08-27 |
公开(公告)号: | CN202865337U | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 何军舫;王军勇 | 申请(专利权)人: | 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/34;C01B21/064 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 101101 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化 硼细颈 蒸发 坩埚 | ||
技术领域
本实用新型涉及热解氮化硼坩埚技术领域,具体地说是一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚。
背景技术
分子束外延是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下,由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气,经小孔准直后形成的分子束或原子束,直接喷射到适当温度的单晶基片上,同时控制分子束对衬底扫描,就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。由于热解氮化硼在高温下与绝大多数熔融金属、半导体材料不润湿、不反应;电绝缘性能好和高温下无杂质挥发;热导性好和热膨胀系数低等优点。因此,分子束外延一般使用热解氮化硼坩埚。但现有的热解氮化硼坩埚蒸发出的分子束流不稳定,影响产品的质量。
有鉴于上述现有的热解氮化硼蒸发坩埚在使用中存在的诸多问题,本实用新型的设计人依靠多年的工作经验和丰富的专业知识积极加以研究和创新,最终研发出一种新颖的热解氮化硼细颈蒸发坩埚,提供了稳定的分子束流。
实用新型内容
为了解决现有技术中存在的上述问题,本实用新型提供了一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚,能提供稳定的分子束流,提高产品的质量。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用了如下技术方案:
一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚,包括呈圆柱形的坩埚本体,所述圆柱形的坩埚本体的上部连接逐渐收缩的颈部,颈部的上端逐渐扩大形成坩埚出口。
进一步,所述热解氮化硼细颈蒸发坩埚的壁厚为0.5-5mm。
进一步,所述颈部内径与坩埚本体内径的比例为1:2~10。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:
本实用新型的一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚的本体呈圆柱形,其上部收缩成细颈,有效保证了蒸汽量的稳定,从而提供了稳定的分子束流。
附图说明
图1为本实用新型的一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚的实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细描述,但不作为对本实用新型的限定。
实施例1
图1为本实用新型的一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚的实施例的结构示意图。如图1所示,一种热解氮化硼细颈蒸发坩埚,包括呈圆柱形的坩埚本体1,圆柱形的坩埚本体1的上部连接逐渐收缩的颈部2,颈部2的上端逐渐扩大形成坩埚出口3。热解氮化硼细颈蒸发坩埚的壁厚为3mm。颈部内径与坩埚本体内径的比例为1:2~10。颈部内径与坩埚本体内径的比例优选为为1:5。
以上实施例仅为本实用新型的示例性实施例,不用于限制本实用新型,本实用新型的保护范围由权利要求书限定。本领域技术人员可以在本实用新型的实质和保护范围内,对本实用新型做出各种修改或等同替换,这种修改或等同替换也应视为落在本实用新型的保护范围内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的