[实用新型]一种防尘真空等离子腔室有效
申请号: | 201220433533.5 | 申请日: | 2012-08-29 |
公开(公告)号: | CN202839529U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 施露;邱勇;黄秀颀;林立;魏博 | 申请(专利权)人: | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 |
主分类号: | H01J37/02 | 分类号: | H01J37/02 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 张杰 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防尘 真空 等离子 | ||
1.一种防尘真空等离子腔室,其包括上腔室(1)和下腔室(2),所述上腔室(1)和所述下腔室(2)之间通过设置于所述下腔室(2)上端面的密封槽(21)内的密封圈(3)实现密封连接,其特征在于:
所述下腔室(2)的上端面上具有防尘凸起(22),所述防尘凸起(22)相对所述密封圈(3)接近腔室内壁设置。
2.根据权利要求1所述的防尘真空等离子腔室,其特征在于:
所述防尘凸起(22)在靠近所述密封圈(3)的一侧成型有吸尘凹槽。
3.根据权利要求1或2所述的防尘真空等离子腔室,其特征在于:
所述防尘凸起(22)与所述下腔室(2)一体成型。
4.根据权利要求1或2所述的防尘真空等离子腔室,其特征在于:
所述防尘凸起(22)在靠近所述密封圈(3)的一侧涂覆粗糙度Ra大于50微米的铝制磨砂涂层,其靠近腔室的一侧涂覆Al2O3或Y2O3绝缘涂层。
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