[实用新型]光谱分析试块模具

权利要求书

1.一种光谱分析试块模具，包括底板（1）及设于底板（1）上的左半模（2）和右半模（3），左半模（2）、右半模（3）和底板（1）共同围合成试块型腔（9），其特征在于：在所述底板（1）的上表面设有水平滑槽（4），对接后的左半模（2）和右半模（3）通过水平滑槽（4）夹紧固定在底板（1）上。

2.根据权利要求1所述的光谱分析试块模具，其特征在于：在所述左半模（2）上对应于右半模（3）的配合面的一端设有前纵向开口槽（5），在右半模（3）上设有与前纵向开口槽（5）互配的前纵向凸台（6），在左半模（2）上对应于右半模（3）的配合面的另一端设有后纵向凸台（7），在右半模（3）上设有与后纵向凸台（7）互配的后纵向开口槽（8）。

3.根据权利要求1或2所述的光谱分析试块模具，其特征在于：所述左半模（2）与右半模（3）对接后为长方体结构，且左半模（2）和右半模（3）相对水平滑槽（4）的中心面呈中心对称分布。

4.根据权利要求1或2所述的光谱分析试块模具，其特征在于：所述水平滑槽（4）为水平通槽。

5.根据权利要求1或2所述的光谱分析试块模具，其特征在于：所述试块型腔（9）的轴心线与水平滑槽（4）的底面垂直，且试块型腔（9）在左半模（2）和右半模（3）上呈对称分布。