[实用新型]一种半导体器件的加工设备有效

专利信息
申请号: 201220435648.8 申请日: 2012-08-30
公开(公告)号: CN202796895U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 李军 申请(专利权)人: 武汉迈拓电子科技有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/68
代理公司: 武汉天力专利事务所 42208 代理人: 冯卫平
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体器件 加工 设备
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及半导体器件加工制造领域,尤其是一种半导体器件的加工设备。

背景技术

电子产品根据其导电性能分为“导体”和“绝缘体”,半导体介于“导体”和“绝缘体”之间,当今电子产业的高速发展,半导体器件的需求量也是迅猛增长,提高半导体器件的生产效率尤为重要。

半导体器件可由人工制作和自动化设备制作,两种加工方式中都需要使用制造制具。传统的加工制具分为单个器件加工和单条器件加工。这两种加工方式所用的制具原理基本一致,都是固定底基上有放置孔和定位槽,在放置孔两侧有用于夹紧半导体器件的金属片。传统的制造方法中首先需要人工将待加工器件逐一放入放置孔,利用定位槽进行定位,然后手工或者利用工具夹紧金属片,使待加工的半导体器件牢牢地固定住,最后再进行各项加工操作。传统的制造方法及装置不仅工作效率低,操作繁琐,生产效率无法与自动化设备效率相匹配,造成专业设备的空置,而且采用金属片夹紧的方式容易使加工的工件表面出现划伤,影响产品质量。

在现有技术中,只能满足少量产品的生产,可运用于设计开发阶段,对于流水线式的批量生产只能增加大量的人工和设备,增加更多的成本。面对如今电子产业迅猛发展的今天,迫切希望半导体器件能在保证高质量的情况下实现高效生产,然而现有的半导体器件加工方法是无法满足的。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种半导体器件的加工设备,其结构简单,操作简便,成本低廉,能实现高效的自动化生产。

为实现上述技术目的,本实用新型提供的方案是:一种半导体器件的加工设备,包括工作平台,其中,所述工作平台上设置具有空腔的底基,底基的表面与其空腔之间均匀分布负压通孔,底基的表面覆盖有盖板,该盖板尺寸与底基相适应,且盖板上均匀分布有与底基上的负压通孔相对应的装载通孔,底基的空腔通过软管与真空泵密封连接。

而且,上述工作平台中间凹进为平滑的滑道,滑道的尺寸与底基相适应,底基两侧具有对称的L形滑边,滑道两侧具有限制L形滑边的阻翻片。

而且,上述工作平台上的滑道内具有销孔,销孔内设置由电磁阀控制的限位销,电磁阀通过软管与空气压缩机连接。

而且,上述盖板上的装载通孔略大于底基上的负压通孔,且装载通孔是倒喇叭形。

而且,上述盖板上的装载通孔一侧具有U形槽。

而且,上述软管具有螺纹连接头。

而且,上述软管的螺纹连接头为金属材质,上述阻翻片也为金属材质。

而且,上述工作平台通过支撑组件架设起来。

本实用新型的优点是,1、结构简单,操作方便;2、可现半导体器件的精确定位,提高加工精度;3、可现批量生产,提高工作效率;4、无直接夹死设计,保证产品外观质量;5、该设计可复制能力强,可适合多种半导体器件的加工;6、制具稳定性好,使用寿命长,降低了使用成本。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是图1的俯视图。

图3是底基的侧向俯视立体图。

图4是底基的侧向仰视立体图。

图5是本实用新型的实例示意图。

其中,1、底基;2、盖板;3、工作平台;4、真空泵;5、限位销;6、电磁阀;7、软管;8、螺纹连接头;9、阻翻片;10、空气压缩机;11、支撑组件;12、负压通孔;13、L形滑边;14、空腔;15、装载通孔;16、U形槽。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。

本实施例提供一种半导体器件的加工设备,包括工作平台3,如图1~图4所示,所述工作平台3上设置底基1,底基1底部中间有一正方形凹进的空腔14,空腔14通过软管7与真空泵4密封连接,真空泵由手动开关控制,空腔14是真空泵4的工作腔,空腔14的深度可依加工的半导体器件的尺寸来定;底基1的表面与其空腔14之间均匀分布负压通孔12,底基1的表面覆盖有盖板2,该盖板2尺寸与底基1相适应,且盖板2上均匀分布有与底基1上的负压通孔12相对应的装载通孔15,在制造该制具时可依据需加工的半导体器件确定负压通孔12的尺寸和个数。

底基1和盖板2经四枚紧固螺钉连接成器件加工夹具,本夹具主要用于与全自动金丝键合设备配套,另外,此夹具还可以与全自动固晶贴片机配套,还可以与储能封焊机配套等。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉迈拓电子科技有限公司,未经武汉迈拓电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220435648.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top