[实用新型]一种半导体器件的加工设备有效
申请号: | 201220435648.8 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN202796895U | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 李军 | 申请(专利权)人: | 武汉迈拓电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/68 |
代理公司: | 武汉天力专利事务所 42208 | 代理人: | 冯卫平 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体器件 加工 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体器件加工制造领域,尤其是一种半导体器件的加工设备。
背景技术
电子产品根据其导电性能分为“导体”和“绝缘体”,半导体介于“导体”和“绝缘体”之间,当今电子产业的高速发展,半导体器件的需求量也是迅猛增长,提高半导体器件的生产效率尤为重要。
半导体器件可由人工制作和自动化设备制作,两种加工方式中都需要使用制造制具。传统的加工制具分为单个器件加工和单条器件加工。这两种加工方式所用的制具原理基本一致,都是固定底基上有放置孔和定位槽,在放置孔两侧有用于夹紧半导体器件的金属片。传统的制造方法中首先需要人工将待加工器件逐一放入放置孔,利用定位槽进行定位,然后手工或者利用工具夹紧金属片,使待加工的半导体器件牢牢地固定住,最后再进行各项加工操作。传统的制造方法及装置不仅工作效率低,操作繁琐,生产效率无法与自动化设备效率相匹配,造成专业设备的空置,而且采用金属片夹紧的方式容易使加工的工件表面出现划伤,影响产品质量。
在现有技术中,只能满足少量产品的生产,可运用于设计开发阶段,对于流水线式的批量生产只能增加大量的人工和设备,增加更多的成本。面对如今电子产业迅猛发展的今天,迫切希望半导体器件能在保证高质量的情况下实现高效生产,然而现有的半导体器件加工方法是无法满足的。
发明内容
本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种半导体器件的加工设备,其结构简单,操作简便,成本低廉,能实现高效的自动化生产。
为实现上述技术目的,本实用新型提供的方案是:一种半导体器件的加工设备,包括工作平台,其中,所述工作平台上设置具有空腔的底基,底基的表面与其空腔之间均匀分布负压通孔,底基的表面覆盖有盖板,该盖板尺寸与底基相适应,且盖板上均匀分布有与底基上的负压通孔相对应的装载通孔,底基的空腔通过软管与真空泵密封连接。
而且,上述工作平台中间凹进为平滑的滑道,滑道的尺寸与底基相适应,底基两侧具有对称的L形滑边,滑道两侧具有限制L形滑边的阻翻片。
而且,上述工作平台上的滑道内具有销孔,销孔内设置由电磁阀控制的限位销,电磁阀通过软管与空气压缩机连接。
而且,上述盖板上的装载通孔略大于底基上的负压通孔,且装载通孔是倒喇叭形。
而且,上述盖板上的装载通孔一侧具有U形槽。
而且,上述软管具有螺纹连接头。
而且,上述软管的螺纹连接头为金属材质,上述阻翻片也为金属材质。
而且,上述工作平台通过支撑组件架设起来。
本实用新型的优点是,1、结构简单,操作方便;2、可现半导体器件的精确定位,提高加工精度;3、可现批量生产,提高工作效率;4、无直接夹死设计,保证产品外观质量;5、该设计可复制能力强,可适合多种半导体器件的加工;6、制具稳定性好,使用寿命长,降低了使用成本。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是图1的俯视图。
图3是底基的侧向俯视立体图。
图4是底基的侧向仰视立体图。
图5是本实用新型的实例示意图。
其中,1、底基;2、盖板;3、工作平台;4、真空泵;5、限位销;6、电磁阀;7、软管;8、螺纹连接头;9、阻翻片;10、空气压缩机;11、支撑组件;12、负压通孔;13、L形滑边;14、空腔;15、装载通孔;16、U形槽。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。
本实施例提供一种半导体器件的加工设备,包括工作平台3,如图1~图4所示,所述工作平台3上设置底基1,底基1底部中间有一正方形凹进的空腔14,空腔14通过软管7与真空泵4密封连接,真空泵由手动开关控制,空腔14是真空泵4的工作腔,空腔14的深度可依加工的半导体器件的尺寸来定;底基1的表面与其空腔14之间均匀分布负压通孔12,底基1的表面覆盖有盖板2,该盖板2尺寸与底基1相适应,且盖板2上均匀分布有与底基1上的负压通孔12相对应的装载通孔15,在制造该制具时可依据需加工的半导体器件确定负压通孔12的尺寸和个数。
底基1和盖板2经四枚紧固螺钉连接成器件加工夹具,本夹具主要用于与全自动金丝键合设备配套,另外,此夹具还可以与全自动固晶贴片机配套,还可以与储能封焊机配套等。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造