[实用新型]电源线保护结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种气相沉积设备中电源线保护结构。

背景技术

为了避免等离子体产生的电弧放电产生极高电压的干扰，在化学气相沉积（chemical vapor deposition，CVD）设备中，位于反应腔中、且连接在加热机构的电连接组件及电源箱之间的电源线，需要在其周围形成屏蔽保护结构，以防止电弧放电导致电连接失效。

图1显示的是设置有现有的电源线保护结构的装置700’位于CVD设备的反应腔内，其中，反应腔底板2及加热机构4分别位于所述装置700’的上部及下部，电源线3的一端通过贯通所述反应腔底板2的隔离引线棒21连接至电源箱（未图示，电源箱位于CVD设备反应腔外）,所述隔离引线棒21包括绝缘隔离层（未图示）和中空腔体（未图示）供所述电源线3穿过反应腔底板2时电学隔离，所述加热机构4连接有电连接组件41，所述电源线3的另一端连接至所述电连接组件41。现有的电源线保护结构1’为长度固定的结构，由于安装该保护结构时，需要先将电源线3贯穿于所述现有的保护结构1’中，而后再采用紧固件5（例如：螺栓51和螺母52）使该电源线3固定连接在电连接组件41上，因此电连接组件41暴露于现有的保护结构1’之外，即现有的保护结构1’设置于电连接组件41以下，但为了最大范围的保护电源线3，因此现有的保护结构1’与电连接组件41之间的留有的空隙很小。

这种长度固定的现有的保护结构1’存在如下不足:一方面，安装现有的电源线保护结构1’时，由于其与电连接组件41之间留有的空隙很小，因此借助紧固件5固定安装电源线3至电连接组件41上、或更换/拆卸紧固件5时，都比较费时费力；另一方面，由于电连接组件41及用于连接的紧固件5均暴露于现有的电源线保护结构1’之外，因此不利于对电连接组件41及紧固件5进行防电弧放电的隔离保护，进一步，暴露于现有的保护结构1’之外的电连接组件41及紧固件5直接暴露于反应腔中，在CVD设备的反应腔进行成膜工作之后，所述紧固件5容易同时被覆盖膜，使所述紧固件5不易更换及拆卸的同时，更易被电弧放电所干扰。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种电源线保护结构，用于解决现有技术中电源线保护结构长度固定引起的电连接组件及紧固件暴露于电源线保护结构之外、及紧固件安装/拆卸费时费力的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种电源线保护结构，所述电源线保护结构长度可调，其至少包括： 

均设有内侧壁和外侧壁的外套管及内套管；

该外套管和内套管相互连接并相对转动；其中，所述外套管套设于该内套管的外部，所述电源线贯穿于所述内套管和外套管套设形成的中空腔体中。

可选地，所述外套管和内套管均具有中心轴，且各该中心轴位于同一条直线上。

可选地，与所述电源线相连接的电连接组件设置于所述外套管和内套管形成的中空腔体中。

可选地，所述内套管和外套管通过螺纹进行连接，外套管的内侧壁设有的内螺纹与内套管的外侧壁设有的外螺纹相匹配。

可选地，所述内套管外侧壁的一端设置有凸耳；所述外套管内侧壁的一端设置有与所述凸耳啮合的内螺纹，另一端设置有与所述凸耳相匹配、沿所述外套管的一端向另一端纵长方向、并与所述内螺纹相连通的引导槽。

可选地，所述内套管外侧壁的一端设置有凸耳；所述外套管内侧壁的一端设置有与所述凸耳啮合的多个相互平行的环形槽，另一端设置有与所述凸耳相匹配、沿所述外套管的一端向另一端纵长方向、并与所述多个相互平行的环形槽相贯通的引导槽。

可选地，所述外套管内侧壁的一端设置有凸耳；所述内套管外侧壁的一端设置有与所述凸耳啮合的外螺纹，另一端设置有与所述凸耳相匹配、沿所述内套管的一端向另一端纵长方向、并与所述外螺纹相连通的引导槽。

可选地，所述外套管内侧壁的一端设置有凸耳；所述内套管外侧壁的一端设置有与所述凸耳啮合的多个相互平行的环形槽，另一端设置有与所述凸耳相匹配、沿所述内套管的一端向另一端纵长方向、并与所述多个相互平行的环形槽相贯通的引导槽。

可选地，所述电源线保护机构的材料为耐高温的绝缘材料，至少包括陶瓷、聚四氟乙烯。