[实用新型]用于气相沉积工艺的反应腔室

权利要求书

1.一种用于气相沉积工艺的反应腔室，包括：托盘，其上表面用于放置衬底；腔室侧壁，环绕所述托盘一周；其特征在于，还包括：构件，至少有一部分环绕所述托盘的边缘一周，所述构件用于改进托盘的边缘的气流场、温度场或浓度场的均匀性。

2.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述托盘具有与上表面相对的下表面，所述构件沿所述上表面向下表面方向的厚度逐渐减小。

3.如权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，所述构件与托盘之间构成排气通道，所述构件具有朝向所述托盘的一侧的侧表面，所述构件的侧表面为平滑过渡。

4.如权利要求3所述的反应腔室，其特征在于，所述构件的侧表面为内凹的弧面。

5.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述构件与托盘之间构成排气通道，所述构件具有朝向托盘的一侧的侧表面，所述侧表面为内凹的弧面。

6.如权利要求5所述的反应腔室，其特征在于，所述侧表面延伸到所述上表面所在平面的上方。

7.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述构件与腔室侧壁之间构成排气通道，所述构件具有朝向腔室侧壁一侧的侧表面，所述侧表面为外凸的弧面。

8.如权利要求7所述的反应腔室，其特征在于，所述侧表面不超过托盘的上表面。

9.如权利要求5或7所述的反应腔室，其特征在于，所述托盘具有与上表面相对的下表面，所述侧表面延伸到所述下表面所在平面的下方。

10.如权利要求2、5、7中任一权利要求所述的反应腔室，其特征在于，所述托盘的上表面的边缘与托盘的侧面之间为弧面过渡。

11.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述构件具有朝向托盘一侧的侧表面，所述构件的侧表面对光线的反射率不小于腔室侧壁对光线的反射率。

12.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述构件具有朝向托盘一侧的侧表面，所述构件的侧表面对光线的反射率不小于托盘的边缘对光线的反射率。

13.如权利要求11或12所述的反应腔室，其特征在于，所述构件的侧表面的粗糙度不超过0.008微米，以便所述构件的侧表面形成镜面，对光线的反射为镜面反射。

14.如权利要求11或12所述的反应腔室，其特征在于，所述构件的侧表面具有耐热反射层，所述耐热反射层在气相沉积工艺过程中保持稳定状态。

15.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述构件沿平行于托盘的上表面的方向的截面为环形。

16.如权利要求15所述的反应腔室，其特征在于，所述构件由两个以上的子构件相连接构成。

17.如权利要求15所述的反应腔室，其特征在于，所述构件为一圆环体。

18.如权利要求1、5、7中任一权利要求所述的反应腔室，其特征在于，所述构件中嵌入有隔热结构，所述隔热结构用于减少托盘的边缘向腔室侧壁的热量散失。

19.如权利要求18所述的反应腔室，其特征在于，所述隔热结构的朝向所述托盘一侧的侧表面为向内凹的弧形。

20.如权利要求19所述的反应腔室，其特征在于，所述隔热结构包括隔热气体容纳层和隔热气体，所述隔热气体容纳层嵌入所述构件中，所述隔热气体容纳层在所述构件中限定出空间，所述空间用于容纳所述隔热气体，所述隔热气体的导热系数低于所述构件的导热系数。

21.如权利要求20所述的反应腔室，其特征在于，所述隔热气体容纳层的朝向托盘的一侧的侧面的形状为内凹的弧面。

22.如权利要求20所述的反应腔室，其特征在于，所述隔热结构为嵌入所述构件中的隔热块，所述隔热块的导热系数低于所述构件的导热系数。

23.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，还包括：气体供给装置，位于所述托盘的上表面的上方，所述气体供给装置用于向所述衬底提供反应气体，所述构件的一端固定于气体供给装置上。