[实用新型]一种双层虹吸结构真空抽吸式地漏有效

专利信息
申请号: 201220463202.6 申请日: 2012-09-12
公开(公告)号: CN202787476U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 崔建军;万桂怡;孙晓明;崔潇 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: E03F5/04 分类号: E03F5/04;E03C1/29
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 邓建国
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 双层 虹吸 结构 真空 抽吸 地漏
【权利要求书】:

1.一种双层虹吸结构真空抽吸式地漏,它包括地漏体,其特征是,地漏体内上部设有上虹吸结构、下部设有下虹吸结构,上虹吸结构上端连通地漏体入水口,下虹吸结构上端连通上虹吸结构、下端连通地漏体出水口;所述上虹吸结构包括上虹吸腔体,下虹吸结构包括下虹吸腔体,所述下虹吸腔体大于上虹吸腔体。

2.如权利要求1所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述上虹吸腔体内设有上虹吸通道,上虹吸通道的入口在上虹吸腔体内的下端,上虹吸通道的出口经过上虹吸腔体的上端向下连通下虹吸腔体。

3.如权利要求1所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述下虹吸腔体内设有下虹吸通道,下虹吸通道的入口在下虹吸腔体内的下端,下虹吸通道的出口经过下虹吸腔体的上端向下连通地漏体出水口。

4.如权利要求2所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述上虹吸通道为多个,均匀设在上虹吸腔体的四周。

5.如权利要求4所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述上虹吸通道为两个,分别设在上虹吸腔体的两侧。

6.如权利要求3所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述下虹吸通道为多个,均匀设在下虹吸腔体的四周。

7.如权利要求6所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述下虹吸通道为两个,分别设在下虹吸腔体的两侧。

8.如权利要求2所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述上虹吸通道的上升段由上虹吸腔体侧壁和上导流板围成,下降段由上虹吸腔体侧壁和地漏体侧壁围成。

9.如权利要求3所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述下虹吸通道的上升段由下虹吸腔体侧壁和下导流板围成,下降段由下虹吸腔体侧壁和地漏体侧壁围成。

10.如权利要求1-9任一项所述的双层虹吸结构真空抽吸式地漏,其特征是,所述地漏体上设有盖板。

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