[实用新型]金属有机物化学气相沉积设备石墨盘转移装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种用于金属有机物化学气相沉积设备的石墨盘转移装置。

背景技术

金属有机物气相化学沉积（Metal Organic Chemical Vapor Deposition，简称MOCVD）技术集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、传热学、光学、化学、计算机等多学科于一体，是一种自动化程度高、价格昂贵、技术密集、技术程度高的高端半导体材料、光电子专用设备。MOCVD作为化合物半导体材料外延生长的理想方法，具有质量高、稳定性好、重复性好、工艺灵活等特点，具有广阔的应用前景和产业化价值。

MOCVD设备薄膜外延生长过程是在放置在石墨盘上的衬底片上进行的，对石墨盘进行清洗或者更换时，需要将石墨盘从反应腔体里面取出来。现有技术中取石墨盘的方式是在反应腔充分冷却以后，打开反应腔的上盖，手工从反应腔体里面将石墨盘取出。这种方式的不足之处是要等到反应腔冷却到能够取石墨盘需要花费一段较长的时间，而且手工取石墨盘的操作繁琐、效率低下。经上述背景技术的描述可知，找到一种快速、稳定的将石墨盘转移出反应腔的方法是十分必要的。

发明内容

本实用新型的目的是针对已有技术中存在的缺陷,提供一种金属有机物化学气相沉积设备石墨盘转移装置。本实用新型包括:包括:机械臂、手套箱1、喷淋盘2、喷淋盘导柱3、整流罩7、升降板导柱8、波纹管9、升降板10、连接套11、波纹管12、底座基体13、旋转座14、石磨盘支撑15、石墨盘16、石墨盘中转装置17，机械臂由机械臂夹取爪4、机械臂旋转轴5、机械臂悬臂杆18和机械臂滑动导轨6组成，喷淋盘2经喷淋盘导柱3设置在手套箱1内，其特征在于所述手套箱1底板上设有一孔，底座基体13固定在手套箱1的底板开孔位置的箱体里面，整流罩7固定在底座基体13上，波纹管9的顶端和手套箱1的底板开孔位置的箱体密封连接，其底端与升降板10密封连接，升降板10上表面依次与连接套11、旋转座14、石墨盘支撑15和石墨盘16连接，升降板10由外部动力驱动沿升降板导柱8上下移动，压缩或者拉伸波纹管9以使石墨盘16跟随升降板10上升或者下降，旋转座14、石墨盘支撑15和石墨盘16都设置在手套箱1内，手套箱1的底板上设有一机械臂滑动导轨6与石墨盘中转装置17，机械臂旋转轴5安装在机械臂滑动导轨6上，机械臂旋转轴5的顶端装有机械臂悬臂杆18，机械臂夹取爪4安装在机械臂悬臂杆18的前端，机械臂由机械臂动力装置驱动。外部动力驱动升降板10带动，当石墨盘16逐渐上升，升出反应腔直到合适的位置，机械臂可以沿机械臂滑动导轨6滑动靠近反应腔，机械臂可以绕机械臂旋转轴5旋转一定角度，靠近石墨盘支撑15上的石墨盘16，再由程序控制的机械臂将石墨盘16转移出反应腔体，石墨盘16由机械臂放置在石墨盘中转装置17上，反之相同，石墨盘16由机械臂从中转位置17处转移放置在支撑结构15上面。

所述石墨盘中转装置17为一机械臂转移石墨盘16暂时存放石墨盘16的中转支撑台。

所述机械臂的外部动力装置为电机驱动或液压驱动，由动力装置驱动机械臂旋转轴5，机械臂旋转轴5沿机械臂导轨6前后移动以及旋转角度，机械臂旋转轴5带动机械臂悬臂杆18前后位移及旋转角度。

所述石墨盘16放置在石磨盘支撑15上，由机械臂夹取爪4夹取或放置。石墨盘中转装置17是支撑由机械臂转移的石墨盘16暂时存放的中转台。

本实用新型的优点是利用机械臂转移石墨盘，而且该机械臂的组成简单，成本低廉。在保证整个腔体密封性的同时能够联动地升高石墨盘，机械臂沿导轨滑动到合适位置，通过夹取、转移石墨盘的方式，将石墨盘移出反应腔，操作方便、提高了效率。

附图说明

图1本实用新型的结构示意图；

图2本实用新型的夹取石墨盘时的俯视结构示意图；

图3本实用新型的移出石墨盘时的俯视结构示意图。

图中：1手套箱、2喷淋盘、3喷淋盘导柱、4机械臂夹取爪、5机械臂旋转轴、6机械臂滑动导轨、7整流罩、8升降板导柱、9波纹管、10升降板、11连接套、12-1波纹管法兰、12-2波纹管法兰、13底座基体、14旋转座、15石墨盘支撑、16石墨盘、17石墨盘中转装置、18机械臂悬臂杆。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本实用新型的实施例：