[实用新型]自抑制泄漏的密封齿形结构有效
申请号: | 201220498041.4 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN202851975U | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 王炜哲;刘应征;施圣贤 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | F16J15/447 | 分类号: | F16J15/447 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抑制 泄漏 密封 齿形 结构 | ||
1.自抑制泄漏的密封齿形结构,其特征在于,该结构包括转子、静子及密封齿,所述的转子位于静子的下方,所述的密封齿设有数个,垂直固定于静子或转子上,密封齿与其相对应的转子或静子之间保持有间隙,各密封齿之间设有膨胀控室。
2.根据权利要求1所述的自抑制泄漏的密封齿形结构,其特征在于,该结构还包括有台阶,该台阶位于密封齿的正下方并垂直固定在转子上,所述的台阶与密封齿之间保持有间隙。
3.根据权利要求1或2所述的自抑制泄漏的密封齿形结构,其特征在于,所述的密封齿的顶端垂直于密封齿的方向设有一个圆弧形凹槽,该凹槽的宽度为齿厚的1/2,在齿顶沿圆周方向分布一圈,深度为齿厚的1/4。
4.根据权利要求3所述的自抑制泄漏的密封齿形结构,其特征在于,所述的凹槽位于密封齿的中间位置。
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