[实用新型]一种提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构有效
| 申请号： | 201220510663.4 | 申请日： | 2012-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN202975590U | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 蔡恩静 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提供 浸没 光刻 扫描 路径 工作 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，包括：硅片，所述硅片置于浸没式光刻机的曝光镜头下方，其特征在于，所述硅片包括多个晶圆，所述多个晶圆还包括底部抗反射层和光刻胶；所述多个晶圆包括中心扫描路径区域的晶圆和外围扫描路径区域的晶圆，所述中心扫描路径区域和所述外围扫描路径区域均为螺旋扫描路径结构。
2.如权利要求1所述的提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，其特征在于，在所述硅片和所述曝光镜头之间充满了液体。
3.如权利要求2所述的提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，其特征在于，所述液体为纯水。
4.如权利要求1所述的提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，其特征在于，在所述光刻胶的表面还包括顶部涂层。
5.如权利要求1所述的提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，其特征在于，所述中心扫描路径区域为逆时针螺旋扫描路径结构，所述外围扫描路径区域为顺时针螺旋扫描路径结构。
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