[实用新型]一种镀膜设备有效
| 申请号： | 201220510671.9 | 申请日： | 2012-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN203034099U | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 金井升;黄纪德;许佳平;王单单;蒋方丹 | 申请（专利权）人： | 上饶光电高科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 334100 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种镀膜设备，其特征在于，在该设备中可形成氧化层和氮化层的叠层，且所述氧化层为低温氧化层，该设备包括：
反应腔室；
与该反应腔室相连的气体管路，该气体管路连接氧化性气体源，该气体管路为在离子束蒸发设备、磁控溅射设备、APCVD设备、LPCVD设备或PECVD设备上新增的气体管路。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括：
等离子发生装置；
与所述反应腔室相连的等离子加速装置。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述氧化性气体源是氧气源或臭氧源。
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