[实用新型]一种表面硬化膜结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种表面硬化膜的结构，具体涉及一种可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，以提升该基板的环境稳定性与机械强度的基板表面硬化膜结构。

背景技术

随着光电、微机电以及光学组件产品逐渐走向轻薄化、可携带性以及多元应用的潮流趋势下，塑料基板所具有的质量轻及高可塑特性，已渐渐取代过去采用玻璃或其它基板所制作的组件；然而，塑料基板使用一段时间后，塑料基板表面容易产生刮痕与磨损，进而影响相关组件的质量与寿命。

过去为了提升塑料基板的应用价值，必须在基板表面设置硬化膜(HardCoating)，以改善塑料基板的环境稳定性与机械强度；然而在现有的硬化膜使用技术领域中，可以作为硬化膜的材料有很多种，包含类钻碳膜(Diamond Like Carbon；DLC)、硅基化合物(Silicon-BasedCompound)及金属氧化物等；其中以二氧化硅硬化膜，为具有较低的折射率(约1.46)及较为优异的硬度，已广泛地应用在各种以塑料基板为主的组件的光学镀膜上。

对于目前制作二氧化硅硬化膜的技术上，许多塑料原材生产及相关上游塑料加工产业仍以浸渍法(Dipping)将基板浸于特定溶液中以达到沉积二氧化硅硬化膜的技术为主流，但是，由于浸渍法容易受到塑料基板本身形状的影响，使得二氧化硅硬化膜的均匀性不佳，降低制作相关组件下游制程的优良率，且基板所浸泡的特定溶液中需要用高含量的溶剂加以稀释，以便于浸渍成型；然而，特定溶液中因溶剂含量高导致固含量较低，当浸渍成型溶剂挥发后，形成于塑料基板表面的二氧化硅硬化膜较薄，导致整体硬度较低(约为HB)。

另一种现有基板硬化结构如图1及图2所示，该基板11先与PMMA(聚甲基丙烯酸甲脂)层12共挤出，使该基板11表面形成有PMMA(聚甲基丙烯酸甲脂)层12，再将PMMA层12表面设置硬化膜13，此硬化结构虽可达到3H硬度；然而，多层结构的设置成型程序较多且成本较高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，以提升基板的环境稳定性与机械强度的基板表面硬化膜结构。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种表面硬化膜结构，其特征在于，所述硬化膜结构为设置在基板上的表面硬化膜，在所述基板至少一面设置有UV层，在所述UV层上附着有耐磨涂层，所述耐磨涂层的厚度为5~50μm。

其中优选的技术方案是，所述UV层与耐磨涂层设置在基板上表面。

优选的技术方案还有，所述UV层与耐磨涂层设置在基板下表面。

优选的技术方案还有，所述UV层与耐磨涂层设置在基板上表面及下表面。

进一步优选的技术方案还有，所述耐磨涂层的厚度为30~40μm。

进一步优选的技术方案还有，所述基板为压克力板。

进一步优选的技术方案还有，所述基板为PC板。

本实用新型的优点和有益效果在于：由于在基板至少一表面设置有UV层并涂布有耐磨涂层，而耐磨涂层的厚度为5~50μm，由于表面的UV层与耐磨涂层使整体基板表面达到硬化耐磨作用，从而提升了基板的环境稳定性与机械强度，可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上。

附图说明

图1是现有基板表面硬化结构的结构示意图；

图2是现有基板表面硬化结构的结构立体图；

图3是本实用新型表面硬化膜结构的结构示意图；

图4是本实用新型表面硬化膜结构的结构立体图。

图中：1、基板；2、UV层；3、耐磨涂层；4、纳米粒子；11、上表面；12、下表面。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

如图3、4所示，本实用新型是一种表面硬化膜结构，该基板1至少一表面设有UV层2（固化硬质层），在UV层2上涂布设有耐磨涂层3，而耐磨涂层3的厚度为5~50μm，如图所示的实施例中，UV层2与耐磨涂层3设置于基板1上表面11及下表面12；当然也可视使用者所需设置于基板1上表面11，或者设置于基板1下表面12。

其中，基板1可以为压克力板或者PC(聚碳酸酯)板等塑料基板，耐磨涂层3的厚度较佳者为30~40μm，耐磨涂层3中设有纳米粒子4(可以为二氧化硅)，以增加该耐磨涂层2的硬度。