[实用新型]防粘增印保护膜有效
申请号: | 201220527566.6 | 申请日: | 2012-10-16 |
公开(公告)号: | CN202936352U | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 金闯;张庆杰 | 申请(专利权)人: | 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02;B32B27/10;B32B33/00;B32B3/30;B32B7/12;B41M5/50;B65D65/40 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡 |
地址: | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防粘增印 保护膜 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种增印保护膜,尤其涉及一种防粘增印保护膜。
背景技术
薄膜面板例如手机触摸按键,薄膜开关等产品在搬运和使用过程中,其表面容易受到接触性污染或磨痕划伤,通常采用保护膜覆盖在其表面使之免受损伤和污染。保护膜一般由基材层和涂覆在该基材层上的胶粘剂层构成。当保护膜用来保护各种薄膜面板例如手机触摸按键,薄膜开关等产品的表面时,需要在保护膜上印刷文字、图案等,传统的保护膜一般都没有经过耐磨增印处理,因此很难在保护膜上进行印刷作业;其次,增印保护膜中离型纸与涂覆有高粘度粘合剂的贴膜贴附时,容易导致离型纸上的离型剂涂层被粘附力更大的粘合剂带走,从而在贴膜的局部表面形成难以清理掉的离型剂涂层区域,破坏了贴膜整体的纯净、一致性。
发明内容
本实用新型提供一种防粘增印保护膜,此防粘增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案和增印保护膜中离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题,且使得有机硅胶面雾度效果好,使得胶面达到低反光效果。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种防粘增印保护膜,包括一基材层,此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层,此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接;所述离型膜包括上表面分别涂覆有雾面抗静电涂层的薄膜层和下表面淋膜有PE膜的原纸层,此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接;所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层。
上述技术方案中进一步改进的技术方案如下:
1、上述方案中,所述雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.821um~3.324um。
2、上述方案中,所述离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
本实用新型防粘增印保护膜,其有利于油墨图案与保护膜粘接,满足了印刷文字、图案的需要;其次,增印保护膜中离型剂涂层用于与粘胶胶面接触的表面有一定的凹凸状,利用光的漫反射原理,可以有一定的雾度,不容易发生反光现象,手指碰到胶面不会留下手指印,肉眼看起来有一种舒适细腻的感觉,满足客户的要求,提高产品竞争力。
附图说明
附图1为本实用新型防粘增印保护膜结构示意图;
附图2为本实用新型离型膜结构示意图。
以上附图中:1、基材层;2、增印涂层;3、有机硅压敏胶;4、离型膜;41、雾面抗静电涂层;42、薄膜层;43、PE膜;44、原纸层;45、胶粘剂层;46、离型剂涂层;47、凸起部。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
实施例1:一种防粘增印保护膜,包括一基材层1,此基材层1上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层2,此基材层1下表面通过有机硅压敏胶3与一离型膜4粘合连接;所述离型膜4包括上表面分别涂覆有雾面抗静电涂层41的薄膜层42和下表面淋膜有PE膜43的原纸层44,此薄膜层42和原纸层44通过一胶粘剂层45粘接;所述雾面抗静电涂层41另一表面涂覆有离型剂涂层46。
上述雾面抗静电涂层41与离型剂涂层46接触的表面的粗糙度为2.88um或者3.31um。
实施例2:一种防粘增印保护膜,包括一基材层1,此基材层1上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层2,此基材层1下表面通过有机硅压敏胶3与一离型膜4粘合连接;所述离型膜4包括上表面分别涂覆有雾面抗静电涂层41的薄膜层42和下表面淋膜有PE膜43的原纸层44,此薄膜层42和原纸层44通过一胶粘剂层45粘接;所述雾面抗静电涂层41另一表面涂覆有离型剂涂层46。
上述雾面抗静电涂层41与离型剂涂层46接触的表面的粗糙度为2.821um~3.324um。
上述离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部47。
采用上述防粘增印保护膜时,其有利于油墨图案与保护膜粘接,满足了印刷文字、图案的需要;其次,增印保护膜中离型剂涂层用于与粘胶胶面接触的表面有一定的凹凸状,利用光的漫反射原理,可以有一定的雾度,不容易发生反光现象,手指碰到胶面不会留下手指印,肉眼看起来有一种舒适细腻的感觉,满足客户的要求,提高产品竞争力。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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