[实用新型]一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃有效
申请号: | 201220530160.3 | 申请日: | 2012-10-16 |
公开(公告)号: | CN203048803U | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 王少伟;陆卫;陈飞良;俞立明;王晓芳;陈效双 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所;上海德福光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离线 可钢化 智能 辐射 镀膜 玻璃 | ||
1.一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃,其特征在于:
在玻璃衬底(1)上依次为低辐射功能膜系(2)、二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)和可离线钢化的氮化硅保护膜(4);
所述的低辐射功能膜系(2)由厚度为5~30nm的纳米单银膜及位于纳米单银膜上层和下层的辅助膜构成,辅助膜由镍铬合金NiCr、氧化锌ZnO、氧化锡SnO2、氧化铝Al2O3、氧化钛TiO2、氮化硅Si3N4、二氧化硅SiO2中的一种或其中的多种沉积层叠构成,厚度为10~50nm;
所述的二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)由诱导结晶层和位于诱导结晶层之上掺杂了大半径金属元素的二氧化钒VO2薄膜构成,其中,诱导结晶层由Si、SiO2、Si3N4、ZnO、TiO2或Al2O3薄膜的一种或其中的多种沉积层叠构成,厚度为20~100nm,掺杂的二氧化钒薄膜厚度为20~300nm;
所述的可离线钢化的氮化硅保护膜(4)厚度为20nm~200nm。
2.一种离线可钢化智能低辐射镀膜玻璃,其特征在于:
玻璃衬底(1)上依次为二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)、低辐射功能膜系(2)和可离线钢化的氮化硅保护膜(4);
所述的低辐射功能膜系(2)由厚度为5~30nm的纳米单银膜及位于纳米单银膜下层的辅助膜构成,辅助膜为氮化硅厚度为10~200nm的Si3N4;
所述的二氧化钒红外辐射智能调节膜系(3)由诱导结晶层和位于诱导结晶层上掺杂了大半径金属元素的二氧化钒VO2薄膜构成,其中,诱导结晶层由Si、SiO2、Si3N4、ZnO、TiO2或Al2O3薄膜的一种或其中的多种沉积层叠构成,厚度为10~200nm,掺杂的二氧化钒薄膜厚度为10~300nm;
所述的可离线钢化的氮化硅保护膜(4)厚度为20nm~500nm。
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