[实用新型]低反光增印保护膜有效
| 申请号： | 201220532510.X | 申请日： | 2012-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN202934876U | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 金闯;张庆杰 | 申请（专利权）人： | 斯迪克新型材料（江苏）有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/10;B32B33/00;B32B3/30;B32B27/30 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 马明渡 |
| 地址： | 223900 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反光 保护膜 | ||
【权利要求书】：
1. 一种低反光增印保护膜，其特征在于：包括一基材层（1），此基材层（1）上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层（2），此基材层（1）下表面通过有机硅压敏胶（3）与一离型膜（4）粘合连接；所述离型膜（4）包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层（41）的原纸层（42）和薄膜层（43），此薄膜层（43）和原纸层（42）通过一胶粘剂层（44）粘接；所述雾面抗静电涂层（41）另一表面涂覆有离型剂涂层（45），此雾面抗静电涂层（41）与离型剂涂层（45）接触的表面的粗糙度为2.821um～3.324um，离型剂涂层（45）另一表面具有若干个凸起部（46）。
2. 根据权利要求1所述的低反光增印保护膜，其特征在于：所述雾面抗静电涂层（1）与离型剂涂层（5）接触的表面的粗糙度为2.921 um或者3.12 um。
3. 根据权利要求1所述的低反光增印保护膜，其特征在于：所述薄膜层（43）为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
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