[实用新型]卧式滚筒真空镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备领域，尤其涉及一种卧式滚筒真空镀膜机。

背景技术

现有卧式滚筒真空镀膜机的真空室绝大多数为一空心圆筒状容器，电阻蒸发器、电子枪或磁控溅射靶都装在真空室中央区域。因此工作中抽真空的体积为圆筒的容积。抽真空时间长、工作效率低。由于真空室内易存在大量的压缩可凝性水蒸气，影响镀膜产品质量。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种可缩短抽真空时间且提高镀膜质量的卧式滚筒真空镀膜机。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种卧式滚筒真空镀膜机，包括空心圆筒状壳体，所述壳体内固定有密封隔板，所述密封隔板将壳体内部分为两个互相独立的区域，其中一区域设置为真空的密封隔离区，另一区域为镀膜室用于容置镀膜用器件。

其中，所述密封隔板为圆筒状，密封隔板与所述壳体同轴设置，所述密封隔板内部为所述密封隔离区，密封隔板与壳体之间的环状区域为所述镀膜室。

其中，所述密封隔板为不锈钢材质。

其中，所述密封隔板的直径为所述壳体直径的0.5~0.8倍。

其中，所述壳体直径为2.8米，所述密封隔板直径为2米。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的卧式滚筒真空镀膜机中，在壳体内建立了一个真空的密封隔离区，当镀膜机工作抽真空时仅需抽除此密封隔离区以外区域的气体，在相同容积壳体内腔的状态下，减少了需要抽真空的体积，大大地减少了抽真空时间，提高了工作效率；并且，抽真空时间短，抽真空的体积小，也减少了镀膜室内压缩可凝水蒸气体积，从而提高镀膜产品膜层质量。密封隔离区保持为真空状态，在镀膜过程避免密封隔离区向镀膜室内漏气，保证镀膜过程中镀膜室的真空度，从而保证镀膜质量。

附图说明

图1是本实用新型卧式滚筒真空镀膜机一实施例的截面示意图。

标号说明：

1、壳体；2、密封隔板；3、镀膜室；4、密封隔离区；5、工件。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。

请参阅图1，本实施例公开了一种卧式滚筒真空镀膜机。该卧式滚筒真空镀膜机包括壳体1和密封隔板2，所述壳体1为空心圆筒状，密封隔板2为圆筒状，密封隔板2固定设置于壳体1内部，且密封隔板2与壳体1同轴设置。密封隔板2内部形成一圆柱形的密封隔离区4，且该密封隔离区4内为真空，密封隔板2与壳体1之间形成一环状区域，该环状区域即作为镀膜室3。密封隔板2可以是本身带两端端盖的空心密封筒体，亦可以不带端盖，而是与壳体1两端端盖密封连接；总之，该密封隔板2使镀膜室3和密封隔离区4成为两个互相独立的区域，两区域之间没有气体交换通道。

该卧式滚筒真空镀膜机在工作时，用于给工件镀膜的电阻蒸发器、电子枪或磁控溅射靶置于镀膜室3内专门的区域如壳体1的内壁或密封隔板2的外壁，待镀膜的工件5沿环状均匀分布放置于镀膜室3。通过抽真空装置对壳体1内部抽真空，由于密封隔离区4本身为密封的真空区域，且其与镀膜室3互相独立，抽真空时仅抽除镀膜室3内的空气。抽真空后，将壳体1密封，工件5由真空镀膜机中必要的驱动部件（可采用现有镀膜机中的相关部件，因此在本实施方式中并未详细说明）带动绕壳体1的中心轴旋转，电阻蒸发器、电子枪或磁控溅射靶对工件5进行镀膜。

本实用新型的卧式滚筒真空镀膜机中，在壳体内建立了一个真空的密封隔离区，当镀膜机工作抽真空时仅需抽除此密封隔离区以外区域的气体，在相同容积壳体内腔的状态下，减少了需要抽真空的体积，大大地减少了抽真空时间，提高了工作效率；并且，抽真空时间短，抽真空的体积小，也减少了镀膜室内压缩可凝水蒸气体积，从而提高镀膜产品膜层质量。密封隔离区保持为真空状态，在镀膜过程避免密封隔离区向镀膜室内漏气，保证镀膜过程中镀膜室的真空度，从而保证镀膜质量。