[实用新型]一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机

说明书

技术领域

本实用新型涉及光电领域，具体涉及一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机。

背景技术

光电领域中，硅是非常重要和常用的半导体原料，是太阳能电池最理想的原材料。制备硅片的原料表面一般都会有杂质和一些氧化物，必须要经过清洗后才能进入后续工序使用。由于硅原料的表面状况不一，许多表面没有杂质或氧化物的原料经常因为没有被及时筛选出，而同样进行酸洗，造成原料的浪费，增加了生产成本。

发明内容

本实用新型的目的在于：克服现有技术的不足，提供一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机，使表面没有杂质或氧化物的硅原料经过冲洗后直接进行超声清洗。

本实用新型所采取的技术方案是：

一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机，包括箱体，所述箱体依次设有控制箱、清洗水槽和水箱，所述清洗水槽上方分别设有盖板，所述清洗水槽分为超声清洗水槽和冲淋清洗水槽。

本实用新型进一步改进方案是，所述冲淋清洗水槽的底面中心纵向设有排水槽。

本实用新型更进一步改进方案是，所述排水槽上固定有漏水板，所述漏水板的表面均匀分布有漏水孔。

本实用新型更进一步改进方案是，所述冲淋清洗水槽内的底面上放置有支撑架，冲淋清洗水槽的左右两侧面顶部分别对称固定有冲淋水管。

本实用新型更进一步改进方案是，所述冲淋水管上均匀分布有出水口。

本实用新型更进一步改进方案是，所述超声清洗水槽设有超声发生器。

本实用新型更进一步改进方案是，所述盖板顶面的中心设有提拉装置，盖板底面四周边缘部位设有密封条。

本实用新型的有益效果在于：

用本实用新型进行硅原料的清洗时，先将硅原料通过冲淋清洗水槽进行冲洗，之后将冲洗过的硅原料进行分类：表面有杂质或氧化物的硅原料进行酸洗后再进行超声清洗，表面没有杂质或氧化物的直接进行超声清洗即可。从上述工作过程可知，用本实用新型进行硅原料的清洗，既方便快捷、工作效率高，又能节约成本、降低损耗。

附图说明：                               

图1为本实用新型结构主视示意图。

图2为冲淋清洗水槽结构剖视放大示意图。

图3为冲淋清洗水槽结构俯视放大示意图。

具体实施方式：

结合图1、图2和图3所示，本实用新型包括箱体5，所述箱体5依次设有控制箱2、清洗水槽1和水箱3，所述清洗水槽1上方分别设有盖板4，所述清洗水槽1分为超声清洗水槽1’’和冲淋清洗水槽1’；所述冲淋清洗水槽1’的底面中心纵向设有排水槽9；所述排水槽9上固定有漏水板6，所述漏水板6的表面均匀分布有漏水孔12；所述冲淋清洗水槽1’内的底面上放置有支撑架8，冲淋清洗水槽1’的左右两侧面顶部分别对称固定有冲淋水管7；所述冲淋水管7上均匀分布有出水口；所述超声清洗水槽1’’设有超声发生器；所述盖板4顶面的中心设有提拉装置11，盖板4底面四周边缘部位设有密封条10。