[实用新型]一种辐射粒子探测器及应用该探测器的辐射粒子探测系统有效
申请号: | 201220558477.8 | 申请日: | 2012-10-29 |
公开(公告)号: | CN203149125U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 董洋;张强;杨亚聃;王滨;陈国民;丁飞 | 申请(专利权)人: | 北京新立机械有限责任公司 |
主分类号: | G01T1/00 | 分类号: | G01T1/00 |
代理公司: | 北京市京大律师事务所 11321 | 代理人: | 李光松 |
地址: | 100039 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 辐射 粒子 探测器 应用 探测 系统 | ||
1.一种辐射粒子探测器,其特征在于:在绝缘条上依次层叠4层涂覆硼的GEM膜,在最上面那层涂覆硼的GEM膜上再层叠涂覆硼的铝膜,其中GEM膜为辐射粒子探测膜简称。
2.根据权利要求1所述的辐射粒子探测器,其特征在于:所述GEM膜结构如下:在50μm的聚酰亚氨树脂层的两面上均依次设置10μm的铜板,20μm的氧化铜层(2-2-5),1μm的氧化铝膜(2-2-4),1μm的硫酸硼层(2-2-3),5μm的铅膜(2-2-2)及3μm的碳纤维层(2-2-1)。
3.根据权利要求1所述的辐射粒子探测器,其特征在于:所述绝缘条为0.8mm间距的x-y绝缘条。
4.一种辐射粒子探测系统,其包括权利要求1至3任意一个权利要求所述的辐射粒子探测器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京新立机械有限责任公司,未经北京新立机械有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220558477.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:工作距可调光纤旋转连接器
- 下一篇:真空管太阳能和地热互补组合式供暖供热系统