[实用新型]一种辐射粒子探测器及应用该探测器的辐射粒子探测系统有效

专利信息
申请号: 201220558477.8 申请日: 2012-10-29
公开(公告)号: CN203149125U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 董洋;张强;杨亚聃;王滨;陈国民;丁飞 申请(专利权)人: 北京新立机械有限责任公司
主分类号: G01T1/00 分类号: G01T1/00
代理公司: 北京市京大律师事务所 11321 代理人: 李光松
地址: 100039 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 粒子 探测器 应用 探测 系统
【权利要求书】:

1.一种辐射粒子探测器,其特征在于:在绝缘条上依次层叠4层涂覆硼的GEM膜,在最上面那层涂覆硼的GEM膜上再层叠涂覆硼的铝膜,其中GEM膜为辐射粒子探测膜简称。

2.根据权利要求1所述的辐射粒子探测器,其特征在于:所述GEM膜结构如下:在50μm的聚酰亚氨树脂层的两面上均依次设置10μm的铜板,20μm的氧化铜层(2-2-5),1μm的氧化铝膜(2-2-4),1μm的硫酸硼层(2-2-3),5μm的铅膜(2-2-2)及3μm的碳纤维层(2-2-1)。

3.根据权利要求1所述的辐射粒子探测器,其特征在于:所述绝缘条为0.8mm间距的x-y绝缘条。

4.一种辐射粒子探测系统,其包括权利要求1至3任意一个权利要求所述的辐射粒子探测器。

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