[实用新型]分立式晶控膜厚控制装置

权利要求书

1.一种分立式晶控膜厚控制装置，涉及真空镀膜设备，该装置包括晶振探头，及用于测量石英晶片谐振频率的晶振频率测量电路，用于控制镀膜速率的膜速控制电路；

所述晶振频率测量电路中设有振荡器，所述晶振探头安装在真空镀膜设备的真空室内，晶振探头的接引线经真空法兰接引至真空镀膜设备的真空室外部，并与晶振频率测量电路中的振荡器电气连接；

其特征在于：所述真空镀膜设备的真空室外部设有一主机、一从机；

所述晶振频率测量电路安装在从机内，所述膜速控制电路安装在主机内，所述从机、主机中均内置有微处理器，所述主机以数字通信方式连接从机；

所述真空镀膜设备设有多个膜速控制端，所述主机设有多个膜速控制信号输出端，主机的各个膜速控制信号输出端分别接到真空镀膜设备的各个膜速控制端。

2.根据权利要求1所述的分立式晶控膜厚控制装置，其特征在于：所述真空镀膜设备的真空室内设有转动的挡板，及用于放置膜料的坩埚，用于控制膜料蒸发速率的蒸发源，所述真空镀膜设备上设有用于驱动挡板转动的挡板驱动器，用于驱动坩埚转动的坩埚驱动器，及用于驱动蒸发源工作的蒸发源控制器；

所述挡板驱动器、坩埚驱动器及蒸发源控制器的控制信号输入端构成真空镀膜设备的膜速控制端；

所述主机的其中三个膜速控制信号输出端分别接到挡板驱动器、坩埚驱动器及蒸发源控制器的控制信号输入端。