[实用新型]胭脂红景天屋顶绿化结构有效

专利信息
申请号: 201220565803.8 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN202958239U 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 崔金中;张瑞清 申请(专利权)人: 天津瑞龙腾建筑工程有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市河*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 胭脂 红景天 屋顶 绿化 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及屋顶绿化技术领域,特别涉及一种胭脂红景天屋顶绿化结构。

背景技术

随着大中城市的现代化发展,土地变得寸土寸金,在城市中兴建公园以及拓展绿地的潜力越来越少。因此,城市屋顶绿化成为了当前城市绿化发展的趋势。屋顶绿化是根据建筑物的结构特点、荷载及屋顶上的环境条件,选择生态习性与之相适应的植物材料,通过一些技艺,从而达到节能环保和丰富园林景观的一种形式。屋顶绿化的价值不仅在于能为城市增添绿色,而且能减少建筑材料屋顶的辐射热,减弱城市的热岛效应,从而改善日趋恶化的人类生存环境。

通常,屋顶绿化层在房顶层面自下而上的铺设为:防水层、隔离层、保护层、隔根层、过滤层、种植层等。由于屋顶上不便于浇水,雨水成为植物生长主要的水分来源。但由于雨水蒸发过快,无法保证草坪在种植层健康地生长。同时,杂草的丛生也吸收了基质土中的养分,对草坪的生长不利;也影响了屋顶绿化的整体景观效果。

实用新型内容

本实用新型提供了一种胭脂红景天屋顶绿化结构,具有高效保水的特点。

一种胭脂红景天屋顶绿化结构,包括:种植层,隔水层、胭脂红景天植被层。所述种植层包括上侧的细土层和下侧的基质土层,所述隔水层设置于所述细土层和所述基质土层之间,所述隔水层设有至少一个开孔,所述隔水层上下两侧涂覆有防水层。在隔水层的开孔中种植胭脂红景天,细土层的厚度为1.3cm。细土层为植物生长提供杀菌处理肥力充足的复合营养土,基质土层为植物生长提供有机基质。

在一些实施方式中,所述隔水层为聚乙烯丙纶布。

在一些实施方式中,所述防水层为刚性防水砂浆层。

在一些实施方式中,所述开孔为多个交错排列的圆形开孔,所述开孔的直径均为3cm,所述开孔之间的间隔均为3cm。

在一些实施方式中,上述基质层厚度为4.0cm。

上述屋顶绿化结构较现有技术,增加了带孔的隔水层。由此,雨水流入开孔中,即可大幅度提高整个结构的保水能力,保证了胭脂红景天草坪的长势良好。同时开孔之间的部分由于缺乏水分和土壤,杂草无法生长。

附图说明

图1为本实用新型一种实施方式的胭脂红景天屋顶绿化结构示意图。

图2为图1中隔水层的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。

图1、图2示意性地显示了根据本实用新型一种实施方式的屋顶绿化结构。

胭脂红景天屋顶绿化结构,包括:种植层1,隔水层2、植被层3。种植层1包括上层的细土层11和下层的基质土层12,隔水层2设置于细土层11和基质土层12的中间。细土层11中可种植胭脂红景天,从而形成植被层3。

细土层11为植物生长提供杀菌处理肥力充足的复合营养土。基质土层12为含有植物生长所需元素、容重又比自然土壤小的介质材料。通常可采用农业有机废料为原料经微生物发酵工艺生产的有土基质。在本实施例中,种植层1厚度为5.3cm,其中细土层11厚度为1.3cm,基质土层12厚度为4.0cm。细土层11的厚度是根据胭脂红景天植物根的长度而设置。细土层11相对较薄,杂草无法在其中生长。

隔水层2设有至少一个开孔21,本实施例中,开孔21为多个交错排列的圆形开孔21,开孔21的直径均为3cm,开孔21之间的间隔均为3cm。隔水层2为聚乙烯丙纶布,隔水层2上下两侧没有孔的位置涂抹防水层22,防水层22可为刚性防水砂浆层。如此,开孔21的设置使得更多水分流入孔中,保证了孔内植物根部得到更多的水分。在孔间没有隔水层的细土层中,水分很快蒸发。聚乙烯丙纶布阻挡了水分向上输送,杂草没有足够水分,生长得到了有效地抑制。同时,防水层22增强了整个屋顶绿化结构的防水作用,使得水分难以往屋顶下渗透。

上述开孔21的大小与距离是经过大量实验后设定的。开孔21的间距是根据胭脂红景天的株距而确定。开孔21的距离过大时,孔中植物生长后,无法将地面全部覆盖,影响其美观,不优选。开孔21的大小是根据胭脂红景天植物的大小来设置。

综上所述的屋顶绿化结构虽只有5.3cm厚,其保水作用可达到现有技术7cm厚的土壤种植层的保水效果。该屋顶绿化结构具有保存水分的作用,由于整个土壤种植层的轻薄,降低了屋顶的承重,使得屋顶的安全性有所提高。同时,该屋顶绿化结构自养能力强,节约了后期的维护成本。

以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于发明本实用新型的保护范围。

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