[实用新型]一种液晶显示装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示装置制作技术，特别是指一种液晶显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，制作高透过率，大尺寸，低功耗和低成本的显示器成为了技术发展的方向。

现有的技术中，如图1所示，彩膜基板放置在面板的外侧，为防止外界电磁场对面板(Panel)内电场的影响从而影响画面的品质，需要在彩膜基板的背面沉积一层起到电磁场屏蔽作用的氧化铟锡(ITO)金属膜层。

现有技术存在如下问题：液晶显示装置的透过率不足，工艺制程复杂，以及复杂工艺导致的设备厂房投资和ITO靶材成本过高。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种液晶显示装置，解决现有技术中液晶显示装置的透过率不足，工艺制程复杂，以及复杂工艺导致的设备厂房投资和ITO靶材成本过高的缺陷。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供一种液晶显示装置，包括：背光源、彩膜基板和阵列基板，其中，所述彩膜基板位于靠近背光源一侧；所述阵列基板位于远离背光源的一侧。

所述的液晶显示装置中，所述彩膜基板不设置透明导电层。

所述的液晶显示装置中，所述阵列基板具有屏蔽所述液晶显示装置前侧的电磁场的导电网格。

所述的液晶显示装置中，所述导电网格为阵列基板上的栅线、数据线和/或显示电极。

所述的液晶显示装置中，所述显示电极是公共电极和/或像素电极。

所述的液晶显示装置中，所述背光源包含屏蔽所述液晶显示装置背侧的电磁场的金属背板。

本实用新型的上述技术方案的有益效果如下：在对盒工艺中，将阵列基板和彩膜基板的位置对调，借助于阵列基板中的导电网格和背光源中的金属背板屏蔽外界电磁场带来的负作用，不再需要在彩膜基板中设置透明导电层，简化了彩膜基板制备工艺，提升了液晶显示装置的透过率，降低了设备厂房及ITO靶材的成本。

附图说明

图1表示现有液晶显示装置的结构示意图；

图2表示现有彩膜基板的结构示意图；

图3表示本实用新型实施例彩膜基板的设计结构示意图；

图4表示本实用新型实施例液晶显示装置的设计结构示意图；

图5表示本实用新型实施例制作液晶显示装置的方法流程示意图；

1玻璃基板

2透明导电层

3黑矩阵(BM，Black Matrix)层

4彩色(Color)层

5保护层(OC)

6隔垫物

7阵列基板

8背光源。

具体实施方式

为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本实用新型中，在设计和制作薄膜场效应晶体管液晶显示装置(TFT-LCD，Thin Film Transistor LCD)的过程中，改变阵列基板和彩膜基板之间的相对位置。如图3所示，彩膜基板包括：玻璃基板1，黑矩阵(BM，Black Matrix)3，彩色(Color)层4，保护层(OC)5和隔垫物6，彩色层4具体是红绿蓝彩色层。

本实用新型实施例提供一种液晶显示装置，包括：背光源8、彩膜基板和阵列基板，其中，

所述彩膜基板位于靠近背光源8一侧；

所述阵列基板位于远离背光源8的一侧。

应用本实用新型实施例提供的技术，在对盒工艺中，将阵列基板和彩膜基板的位置对调，借助于阵列基板中的导电网格和背光源8中的金属背板屏蔽外界电磁场带来的负作用，不再需要在彩膜基板中设置透明导电层2，简化了彩膜基板制备工艺，提升了液晶显示装置的透过率，降低了设备厂房及ITO靶材的成本。

彩膜基板位于靠近背光源一侧包括：彩膜基板中的玻璃基板1固定于背光源，固定是指，将玻璃基板1通过卡扣的方式固定在背光源8的工作面一侧。

如图3所示，玻璃基板1与阵列基板之间还包括：黑矩阵层3，彩色层4、保护层5和隔垫物6。

在一个优选实施例中，如图3所示，保护层5覆盖住黑矩阵层3和彩色层4。

在一个优选实施例中，所述彩膜基板不设置透明导电层2。去除了在彩膜基板上设置透明导电层2的工艺流程。

在一个优选实施例中，所述阵列基板具有屏蔽所述液晶显示装置前侧的电磁场的导电网格。