[实用新型]一种钕铁硼氢碎制粉工艺用料斗装置

说明书

技术领域

本实用新型专利涉及一种钕铁硼氢碎制粉工艺用料斗装置，尤其是涉及到一种钕铁硼工艺处理中氢碎制粉环节的进料料斗装置。 

背景技术

随着科技的发展，目前钕铁硼稀土永磁器件作为不可或缺的电子元件在各电子产品中发挥着重要的作用。工业上面生产钕铁硼器件其工艺流程中采用氢碎工艺处理钕铁硼铸片，生产粉料。在氢碎过程中，首先需要将铸片添加进氢碎炉。但钕铁硼铸片在空气中易于氧化，在添加铸片的过程中采用气氛保护的同时，应尽量缩短铸片暴露于空气中的时间，这对减少铸片的氧化至关重要。 

传统的进料方法采用人工手段于炉体进料口上方手动添加，按照一桶铸片重达50KG计算，进料一桶需花费5-10分钟，这不仅使铸片长时间暴露于空气中，增大了被氧化的几率，而且耗工耗时，严重影响了工业化生产效率。 

发明内容

为了缩短氢碎工艺处理钕铁硼铸片时铸片与空气之间的接触时间，本实用新型专利提出了一种钕铁硼氢碎制粉工艺用料斗装置，有效的解决了这个难题。 

本实用新型专利解决其技术难题采用的方案为：采用新型钕铁硼氢碎制粉工艺用料斗装置，其特征是：该料斗装置由底座支架、半圆状进料道两部分组成；其中2条为支撑柱；半圆状进料道的一端开口直径大于另一端；装配时，半圆状进料道焊接于底座支架的支撑柱上；使用时，半圆状进料道直径较小的一端插入氢碎炉进料口。 

如上所述的底座支架的2条支撑柱高为60cm，直径为6cm。 

如上所述的半圆状进料道采用厚度为0.1～1cm的钢板，其中一端开口直径为40～50cm，另一端开口直径为15～25cm，两端之间长度为50～80cm。 

具体的操作步骤如下： 

采用进料料斗装置代替传统的人工添加装置，从而减少被氧化几率，同时提高生产效率。 

(1)底座支架设计：底座支架设计采用直径为6cm的钢材，其中2条支撑柱高为60cm并采用直径6cm，长40cm的钢材距离顶端各15cm处焊接于一体。 

(2)半圆状进料道设计：进料管道采用半圆钢板设计，其中一端直径为40～50cm，另一端直径为15～25cm，两端之间长度为50～80cm，厚度为0.1～1cm。 

(3)装配：将(1)与(2)两个部件焊接连接于一体，得到一种钕铁硼氢碎制粉工艺用 料斗装置。 

本实用新型专利的有益效果为：(1)克服了在氢碎过程中，添加铸片过程周期长，铸片易于氧化使制粉粉料的性能降低，从而导致产品性能不合格的缺点；(2)极大的减少了工人的劳动量，将生产效率从以往人工每炉料800KG需手动添加1小时减少到每炉料800KG仅需5分钟即可添加完成。 

附图说明

图1为料斗装置底部支架的前视图。 

图2为料斗装置底部支架的等轴视图。 

图3为料斗装置半圆状进料道的前视图。 

图4为料斗装置半圆状进料道的左视图。 

图5为料斗装置半圆状进料道的俯视图。 

图6为料斗装置半圆状进料道的等轴视图。 

具体实施方式

实施例： 

采用新型钕铁硼氢碎制粉工艺用料斗装置，其特征是：该料斗装置由底座支架、半圆状进料道两部分组成；其中2条为支撑柱；半圆状进料道的一端开口直径大于另一端；装配时，半圆状进料道焊接于底座支架的支撑柱上；使用时，半圆状进料道直径较小的一端插入氢碎炉进料口。 

如上所述的底座支架的2条支撑柱高为60cm，直径为6cm。 

如上所述的半圆状进料道采用厚度为0.1～1cm的钢板，其中一端开口直径为40～50cm，另一端开口直径为15～25cm，两端之间长度为50～80cm。 

具体的操作步骤如下： 

采用进料料斗装置代替传统的人工添加装置，从而减少被氧化几率，同时提高生产效率。 

(1)底座支架设计：底座支架设计采用直径为6cm的钢材，其中2条支撑柱高为60cm并采用直径6cm，长40cm的钢材距离顶端各15cm处焊接于一体。 

(2)半圆状进料道设计：进料管道采用半圆钢板设计，其中一端直径为40～50cm，另一端直径为15～25cm，两端之间长度为50～80cm，厚度为0.1～1cm。 

(3)装配：将(1)与(2)两个部件焊接连接于一体，得到一种钕铁硼氢碎制粉工艺用料斗装置。 

采用该进料料斗装置将效率从以往人工每炉料800KG需手动添加1小时减少到每炉料800KG仅需5分钟即可添加完成，极大的提高了工艺流程的效率，同时也降低了工人的劳动 量，减少了钕铁硼铸片被氧化的几率。